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1硬件介绍篇ELEDETM330ICPEtchingSystemOperationTrainingNMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining2目录1.概述2.电气模块3.工艺模块3.1工艺腔室系统3.2上电级和射频系统3.3下电极系统3.4真空系统3.5温控系统3.6气路系统4.传输模块NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining3目录1.概述2.电气模块3.工艺模块3.1工艺腔室系统3.2上电级和射频系统3.3下电极系统3.4真空系统3.5温控系统3.6气路系统4.传输模块NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining4整机标配1PM+1TM+1CM设备占地(长×宽×高)2810×1447×1965维护空间(长×宽×高)3600×2750×2300托盘尺寸330mm单次处理片数蓝宝石:22片(2英寸),7片(4英寸)GaN:27片(2英寸),7片(4英寸)生产方式全自动,CassettetoCassetteCassette容量可装载5个托盘产能55wfs/Hr(2inchPSS),114wfs/Hr(2inchGaN),17wfs/Hr(4inchPSS),29wfs/Hr(4inchGaN)Uptime90%MTBF250hMTTR4hMTBC200RFHMTTC6h设备规格1.概述NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining5气路系统Cl2200sccmBCl3300sccmSF6300sccmAr200sccmN2200sccmO2300sccm真空系统压力控制范围0~100mTorr工艺腔室本底真空1×10-3mTorr漏率1mTorr/min设备规格1.概述NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining6外观结构1.概述NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining7系统组成操作界面ELEDE330ICP刻蚀机GasBox干泵电源柜1.概述CHILLERNMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining8目录1.概述2.电气模块3.工艺模块3.1工艺腔室系统3.2上电级和射频系统3.3下电极系统3.4真空系统3.5温控系统3.6气路系统4.传输模块NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining9电气模块构成•集簇控制系统–控制盒–电源系统–下位机–上位机•显示器–触摸屏–触摸笔•键鼠–键盘(带触摸板)EthernetEPCEUCEthernetAI/ODNetRS232/485PumpRFSensorsDIOValvesSwitchsDIODIO6MFCPMDIODIODIOTMCPLDInterlcokCPLDInterlcokDIO温控DIOAIOPumpRobotSensorsValvesSwitchsFacilityAIOSpareVCEGaugeSpareTRTRDeviceNetPower2.电气模块NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining10电源柜•输入电源:380VAC/3Phase2.电气模块DPNMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining11整机电源系统整机交流部分整机直流部分2.电气模块208VAC/3phaseMainPower整机直流(控制与下位机)PowerAC控制与EMO回路EPCMonitorRobotCassettePMPower整机直流控制2.5ADeviceNet5APLC,下位机5ANMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining12PM交流系统2.电气模块断路器主断器上下射频电源208VAC/3phase分子泵PendulumValve内管加热Angle&Iso&pendulumheater直流模块开盖电机腔室加热208VAC工艺气体加热断路器备用NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining13PM直流系统ESC(备用)BRFMatch4.5ASRFMatch4.5AHoistDC1A直流模块E1208VAC电源24VDC400W温控器1APM直流分配:1.直流模块选型:模块一:一个+24V400W;模块二:+15V100W*2,+24V200W。2.电气模块MatchAdapt转9V,2APM控制24V,5AForeline规+-15V0.6AChamber规+-15V0.6AProcess规+-15V0.7APMHePC+-15V0.35A208VAC电源直流模块E2+15VDC100W*2+24VDC200W风扇0.3ANMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining14控制盒•工艺模块控制与传输模块控制–基于DeviceNet网络的控制系统•更快的响应速度,强大的功能•更高的可靠性与稳定性•附图是传输模块,工艺模块类似•控制系统划分–DeviceNet总线耦合器–外部I/O信号收集–互锁电路板–直流电源分配端子互锁电路板外部I/O信号收集DeviceNet总线耦合器直流电源分配端子2.电气模块NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining15目录1.概述2.电气模块3.工艺模块3.1工艺腔室系统3.2上电级和射频系统3.3下电极系统3.4真空系统3.5温控系统3.6气路系统4.传输模块NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining16工艺模块(1)上电级系统(2)反应腔系统(3)下电极系统(4)真空系统以及温控系统和气路系统(1)(2)(3)(4)3.工艺模块NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining17腔室结构•侧下抽气+中央进气方式--实现优秀气流均匀性和抽气能力•腔室对称设计--实现高密度等离子体和刻蚀均匀性•腔室特殊防腐处理--优良的耐化学和耐等离子腐蚀3.工艺模块NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining18腔室结构气流仿真指导设计,对气体流速和压力进行模拟仿真。模型仿真结果3.工艺模块NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining19腔室组件设计•石英窗--减少颗粒污染•调整支架--可以有效调整离子鞘层;--改变气体流速和分布•带有屏蔽的中央进气喷嘴--实现高功率有效放电•DupontViton密封圈--优良的耐化学和耐等离子腐蚀3.工艺模块NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining20目录1.概述2.电气模块3.工艺模块3.1工艺腔室系统3.2上电级和射频系统3.3下电极系统3.4真空系统3.5温控系统3.6气路系统4.传输模块NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining21特性和优点•石英喷嘴–抗等离子体–耐腐蚀•内壁粗糙度控制–稳定气流–减少颗粒污染•喷嘴出口–均匀气体分布–稳定的气流均匀气体分布稳定的气流3.工艺模块进气喷嘴NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining22高品质石英窗•易于清洗和维护•减少颗粒污染3.工艺模块石英窗NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining23射频系统组成3.工艺模块上电级下电级反应腔NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining24射频系统-线圈•低电子温度、高功率和压力----减少等离子损伤•高离子密度和宽工艺窗口----增强等离子密度和刻蚀速率•中心对称--提供刻蚀均匀性•镀金镀银--增强线圈导电3.工艺模块NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining25目录1.概述2.电气模块3.工艺模块3.1工艺腔室系统3.2上电级和射频系统3.3下电极系统3.4真空系统3.5温控系统3.6气路系统4.传输模块3.工艺模块NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining26托盘设计2”PSS22片4”PSS7片更换托盘即可实现2英寸向4英寸的升级3.工艺模块2”GaN27片4”GaN7片NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining27基片控温高性能,宽温度范围Chiller(-20℃~+40℃)高压力稳定性,低漏率的氦气控制(649规)氦气控压模块chiller模块3.工艺模块NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining28目录1.概述2.电气模块3.工艺模块3.1工艺腔室系统3.2上电级和射频系统3.3下电极系统3.4真空系统3.5温控系统3.6气路系统4.传输模块3.工艺模块NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining29真空系统•真空获得–2100L/s抽速分子泵:极限真空10-9mbar–600m3/h抽速干泵:为分子泵提供前级真空压力•压力控制–摆阀–真空规–保护•二级角阀•隔离阀3.工艺模块二级角阀100mT真空规10T真空规分子泵摆阀NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining30真空系统-分子泵特性3.工艺模块NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining31目录1.概述2.电气模块3.工艺模块3.1工艺腔室系统3.2上电级和射频系统3.3下电极系统3.4真空系统3.5温控系统3.6气路系统4.传输模块NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining32温度控制3.工艺模块•射频~•调整支架加热•工艺腔室腔体加热•内衬加热•加热型摆阀•加热型分子泵•隔离阀加热•近端管道加热•加热型干泵•颗粒收集装置•抽气腔室腔体加热•射频~•气体控制柜•(BCl3气路加热)•工艺气体管路加热NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining33下电极温度控制•高可靠性低温chiller控制,实现下电极有效控温•高阻抗GaldenHT-135/FC-3283作为循环液,不导电,无污染原理图卡盘3.工艺模块NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining34下电极温度控制•Chiller特性–温度范围:-20℃~+40℃–温度精度:±0.4℃–冷却能力:2.0kw(-10℃)–泵功率:20litters/min0.45MPa3.工艺模块NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining35下电极温度控制3.工艺模块Chiller工作流程图NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining36目录1.概述2.电气模块3.工艺模块3.1工艺腔室系统3.2上电级和射频系统3.3下电极系统3.4真空系统3.5温控系统3.6气路系统4.传输模块NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining37工艺气体流动路径•气源柜•气体控制柜•工艺腔•分子泵•干泵•颗粒收集装置•Scrubber•厂房排气系统3.工艺模块NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining38气体控制柜•功能组件–手阀HV:气体到气体控制盘的控制开关–气动阀:气体到MFC控制开关–MFC:气体流量精度±1%GasBox3.工艺模块•自动吹扫•压差开关保护NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining39目录1.概述2.电气模块3.工艺模块3.1工艺腔室系统3.2上电级和射频系统3.3下电极系统3.4真空系统3.5温控系统3.6气路系统4.传输模块NMCConfidential–DoNotCopy–NMCTraining40传输系统介绍•ELEDE330的传输系统是一套高度自
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