专利交底书模板--通用版-

专利申请技术交底书（201606-DB002通用修订版）专利卷号：________________________________发明名称：_________________________________发明人姓名：_______________________________第一发明人身份证号码（中国发明人）：______________________技术联系人：______________________电话：_________________________________E-MAIL：_________________________________所属公司/部门_________________________________Q：术语解释（如有特别定义的模块、组件、化学物质，请给出本领域技术人员能明确的通常解释）：Q：请发明人按发明的实际内容依据以下引导填写本交底书：1、本发明是否已在或计划在产品中实施？如果是，请列出产品名。是否已经或计划对外书面公开？如果是，请具体说明。2、本发明是否有敏感的部分不适合作为专利申请公开？例如，会不会对黑客或竞争对手提供优势？3、本发明所属的技术领域，涉及的技术问题是什么？此处请主要阐述本发明属于何种领域（例如水性涂料、汽车漆等），解决了什么样的技术问题（例如防流挂、清洁）：4、详细介绍技术背景,并描述已有的与本发明昀相近似的实现方案（包括两部分：1、作为本发明基础的且帮助理解本发明公知技术内容；2、与本发明昀接近的已有技术方案的说明（对于方法，应说明现有方法的步骤，对于装置，应当说明结构组成及其关系））4.1技术背景：生产应用环境、通行做法、需求的产生4.2昀接近的技术方案具体是：（目前解决相同或类似问题的惯用做法、已有的专利或技术）4.3昀接近的技术方案存在的技术缺陷：现有做法仍然不能满足的是什么？4.4现有技术需要解决的问题是：可以与问题3相同。2017-11-5版权所有，侵权必究第2页，共3页5、以因果关系推理的方式推导出现有技术的缺点是什么？针对这些缺点，说明本发明的目的及能够达到的技术效果。（现有技术的缺点是针对于本发明的优点来说的，本发明不能解决的缺点不必写）5.1现有技术与本发明的技术方案对比：例如步骤、结构、方案、方法等5.2本发明达到的技术效果：实现了什么样的功能、达到或提升了什么效果5.3本发明是否确实解决了前述技术问题：是否克服了现有技术缺陷6、本发明技术方案的详细阐述，应该结合流程图、原理框图、电路图、系统结构图、化合物通式或图表进行说明（发明中每一功能的实现都要有相应的技术实现方案；所有附图都应该有详细的文字描述；方法专利都应该提供流程图，并提供相关的系统装置）。6.1本部分为专利申请昀重要部分，需要详细提供；6.2发明必须是一个技术方案，不能只有原理，也不能只做功能介绍；6.2.1其中，化学发明的组合物发明：a对每一种组分的重量份（或重量百分比）应提供至少三组数据（昀大值、昀小值以及优选中间值）；在用重量百分比时，请注意一组实验数据中各组分的百分比总和尽量满足100%的逻辑要求。b阐明各组分的来源（生产或销售商）、物理（例如晶体、颜色等等）或化学特性（改性聚酯、基团、分子量、羟值、酸值、Tg值等等）；c在组合物中的添加顺序、反应要求（或者组合物的制备步骤）；d组合物的整体化学特性、有益效果应给予充分、清楚、完整的说明。6.2.2化学发明的化合物发明：a应对化学式或分子式通式结构给予详细说明；b各基团及其数目范围应予以明晰；c对于化合物的制备步骤与条件，应给予充分的说明；d化合物的化学特性、有益效果应予以充分、清楚、完整的说明。6.3对于软件、业务方法，要提供流程图；6.4必要时，（尤其软件、机电结构、商业方法、人工智能、云计算、机器学习、通信领域、电路设计）必须结合流程图、原理框图、电路图、系统结构图等对附图进行说明。7、在实施本发明中，是否有某种计算机语言，软件或硬件能够达到昀佳的实施效果？2017-11-5版权所有，侵权必究第3页，共3页8、本发明的关键点和欲保护点是什么？（请提炼出本发明的技术创新点，以提醒专利代理人注意，便于其撰写权利要求书）。本发明的关键点在于：9、能实现本发明目的的其他替代方案（尽量多列举可实现本发明的的其他替代方案，以便充分公开本发明）10、关于专利申请中附图的要求：a发明与实用新型的附图应为黑白图档，线条清晰，黑色墨水线绘制或由CAD、Visio、Protel、photoshop等制图工具完成，以便于修改；除外观设计专利以外，发明与实用新型的附图应清晰、工整。b外观设计应提供彩色或黑白照片或绘图，需要物品的六面视图拍照或制图。