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讲述内容一、干膜知识二、前处理三、贴膜四、曝光五、显影六、蚀刻七、去膜八、菲林制作九、干膜类型十、工程处理注意事项一、干膜知识1968年由杜邦公司研制并用于线路板行业(非水溶性干膜,溶剂型;显影用三氯乙烷,退膜用二氯甲烷)。(缺点:需消耗大量有机溶剂,污染大,成本高)1970年研制出一种半水溶性干膜,显影.退膜用水溶液(添加2-15%有机溶剂.BCS),成本.污染有很大改善。1978年改进为全水溶性干膜,显影用K2CO3.Na2CO3,退膜用KOH.NaOH,其成本更低,污染更小,品质更好。APart:聚醋盖膜(保护膜)冲影时撕去1milPolyesterCoverSheetBPart:光阻膜层PhotopdlymerFilmResistCPart:聚乙烯隔膜、贴膜时撕去PolyettylencSeparatorSheet厚度1mil附图于下一页干膜结构干膜结构-附图聚醋盖膜(保护膜)聚乙烯隔膜光阻膜层干膜各层作用聚酯保护膜:1.保护作用,防止擦花药膜,尤其是贴膜到冲影前的保护.2.防止氧气进入阻剂层,由于曝光后聚合反应将继续进行,氧气进入会与自由基发生反应形成非活性的过氧化物,阻止聚合反应的进行,使聚合过程停止造成曝光聚合不足。聚乙烯隔膜避免卷膜、运输、储存时,干膜药膜与保护膜之间相互粘贴,(厚度25µm-30µm,测本公司干膜隔膜27µm)光阻膜层(药膜层)光聚反应的主体干膜各层作用1.粘合剂4.促化剂与附着力促进剂2.光聚合反应单体3.感光启动剂(光引发剂)5.染料6.热阻聚剂7.溶剂干膜化学组成1.粘合剂*将干膜各组份粘结成膜,是光阻层的骨架,主要影响膜层的物理性能,在光聚合过程中不参与化学反应,但其决定光阻剂是属于溶性、半水溶性和溶剂性干膜,粘洁剂决定干膜的Tg点。2.光聚合反应单体*聚合反应主体,单体吸收自由基后进行聚合反应形成商分小聚合体。化学成份作用3.感光启动剂感光启始剂吸收特定波长紫外光(一般320-400nm),启动剂自行裂解而产生自由基,为聚合反应提供条件。4.促化剂与附着力促进剂增进光阻层与铜面之间的附着力,防止粘结不牢而引起的渗镀与甩膜。化学成份作用5.染料a.干膜本身制造时,方便进行检查。b.曝光前后有明显颜色变化,便于已曝光板与未曝光的区分及目检。a.感光增色:曝光后颜色加深。b.感光褪色:曝光后颜色变浅。目的分类化学成份作用6.热阻聚剂干膜在生产及应用过程中很多步骤需接受高温,为阻止热能使干膜发生聚合作用而加入热阻聚剂7.溶剂将各有效成份溶解。化学成份作用启始剂吸收UV光的能量后,先自行分裂产生自由基,自由基引发光聚反应,形成交联聚合物,不溶于显影液,而未曝光的光阻膜被显影液剥去,聚合成像部分,保留在铜面上。流程图显影单体发生光聚反应形成聚合体单体吸收自由基出现自由基启始剂裂解紫外光照射干膜反应过程磨板作用a.除去板面的氧化,油污,手指印,及其它污物。磨板效果图附后b.在板面上形成微观粗糙表面,增大干膜与板面积,使干膜有更好的附着力。c.提供烘干后的干燥板面。二、前处理磨板前板磨板后板板面氧化.油污.手指印等磨板磨板效果图设备典型部件1〉磨刷及喷嘴主要物料1.磨刷材质:尼龙;颜色:白色;规格:针粗0.35mm,整刷外径81mm,针长37.2mm,刷长635mm;更换周期:一周(更换成本比较高);2.酸硫酸,浓度为3~5%,温度为常温;3.火山灰质量参数:公司采用的为HESS的4F牌号火山灰,其主要化学成分为SiO2:72.10%;AL2O3:12.33%;Fe2O3:1.34%颗粒分布范围:小于68um(+/-5um)颗粒占90%,大于25um(+/-5um)的颗粒占50%以上。主要控制要点1.浮石粉沉降试验每四小时做一次,控制范围15~20%;目的:间接判断火山灰有效粒径;2.水膜试验每班一次,水膜时间15秒;目的:评价磨板后的板的洁净度;有机污染3.磨痕试验内层、外层板镀板:12-18mm;外层沉厚铜板:4-8mm;目的:评价磨板时上下两对刷子对板的压力状况。磨痕类型E、磨板后质量检查a.目检板面是否有氧化、水迹、污物.板面清洁度。b.水膜测试测试方法:取板面清洁处理后的板,用水浸湿板面并垂直放置,用秒表测量水腊膜破裂的时间,c.板面粗糙度:经磨板后的板面粗糙程度(2.0µm左右).*行业界人员定义一些参数衡量粗糙度如Ra;表面取样长度内基准线上所有距离绝对值的算术平均值;一般0.2-0.4µm.Rt;表面取样长度内最高峰顶和最低谷度之间的距离1.5-3.0µm一般用目视法估计,较少用科学仪器检测。粗糙度由:磨刷材料,磨料粒度,磨板时的功率等共同决定。磨板的控制磨板的控制五、无尘房的控制温度湿度压力空气中尘粒含量光线无尘房需控制的条件a.温度过高,干膜容易融边,而且干膜溶剂挥发影响贴膜效果。b.菲林尺寸稳定性会受温度的影响。*温度对黄菲林影响:(10-20)*10-6/0C例如长度为24”的菲林,温度升高10C,长度约增加24*1000*(10~20)*10-6=0.24~0.48mil/0CHumidity55±8%Temperature21±2℃温湿仪温度控制1.黄菲林尺寸稳定性受湿度的影响,湿度对黄菲林影响:(15~25)*10-6/%RH例如:长度为24”菲林,相对湿度增加1%RH,长度约增加:24*1000*(15-25)*10-6=0.36-0.6Mil/%RH2.干膜储存需要控制一定的湿度Humidity55±8%Temperature21±2℃温湿仪湿度控制尘粒含量通常是指1ft3的空气中含有0.5µm以上尘埃个数,做为表达单位,如100个以下称class100(现公司尘量为class1万,表示0.5µm以上尘埃个数不超过10000个或者5.0以上尘埃个数不超过70个)。[测量工具:测尘仪]压力控制无尘房保持正气压的作用是减少外界空气进入,减少空气中尘埃量。正压空气空气空气中尘含量控制干膜,未覆制的黄菲林存放,以及及半存放品需于黄光下存放,贴膜曝光,显影黄菲林覆制过程,也要在黄光条件下进行。CleaningRoom光线控制预热让贴膜板有足够热量以辅助干膜之流动性,而更好地压贴在粗糙铜面上。清洁在贴膜前对板面进行清洁,减少贴膜时干膜下垃圾。贴膜是利用加热来降低干膜粘度,使干膜自行软代,加压将药膜挤压贴于已完成清洁,粗化板面上。贴膜三、贴膜a.必须遵行铜面大膜面小的原则。b.更换胶辘应留意发热管的安装,避免温度不均匀。c.安装干膜要注意上下对齐。注意贴膜岗位注意事项干膜碎温度:温度太高,干膜图像变脆,耐电镀力差,温度太低,干膜未能完全软化,流动而与铜面粘附牢固,结合力不好,干膜甩膜,渗镀。温度测定:测温仪。压力:贴膜压力太大,贴膜容易起皱,干膜盖孔容易破,压力太小,贴膜不牢。贴膜参数控制a.贴膜后需要静置15分钟以上才能曝光让已贴膜板冷却到无尘房控制温度范围,避免热板使菲林变形。b.贴膜板静置冷却可使干膜完全与板面贴合,而且完全硬化。贴膜后静置时间压膜时间温度压力影响贴膜效果的主要因素a.贴膜压力是压膜滚轮施于干膜上的实际压力(生产时是用气压表上力作参考)b.影响条件:气缸气压,压膜滚轮与基板形成压痕的长度和宽度。*“压痕”的形状受气缸气压、滚轮直径、包胶厚度、滚轮表面包胶硬度等因素影响。c.测试:用测压纸测试。影响贴膜效果的主要因素——压力a.贴膜温度是指干膜与板面铜箔介面的实际温度,(生产上常以压辘温度作参考)。b.贴膜温度决定于压辘与干膜接触时间,(贴膜时间)。c.压辘温度预热温度介于压辘和光阻铜箔介面的热导系数。影响贴膜效果的主要因素——温度a.压膜时间是指滚轮与干膜接触点的时间。b.压膜时间由贴膜压力(实际是压痕宽度)与传送速度决定。附表(生产时以传送速度作为参考)压力速度3bar4bar5bar1m/min0.72sec.0.82Sec.0.91Sec.2m/min0.36sec.0.41Sec.0.45Sec.3m/min0.24sec.0.27Sec.0.30Sec.影响贴膜效果的主要因素——压膜时间贴膜辘对贴膜效果的影响贴膜辘对良率的影响辘压力(bar)贴膜辘的压力及外形对良率的影响47普通压辘的缺陷率凸面压辘的缺陷率1%0.18%0.15%0.05%曝光是指UV光线穿过菲林及保护膜,而到达感光膜体上,使进行一连串的光聚合反应,形成不溶于显影液聚合物。流程图显影单体发生光聚反应形成聚合体单体吸收自由基出现自由基启始剂裂解紫外光照射四、曝光聚合过程光源点光源点光源ORC手动曝光机1、由于曝光框架两层各为麦拉层和玻璃层,因此上下曝光的能量各不相同。2、设备通过对灯罩的开合控制曝光时间的多少。3、灯罩有冷却水,冷却水在保养时需要更换。4、离子罐需要检查,无吸附能力时,需要更换。5、反光罩对能量的均匀性有比较大影响,通常通过调整反光罩的位置来调整能量均匀性。平行光源平行光源就是将由点光源发出的光经过抛物面反射通过移动反射镜来达到上下两面的先后曝光。平行光的最大优点是在曝光时,所有光线是垂直照射到光致抗蚀剂上,因而可以得到与底片“相同”的尺寸图形(显影后),得到较理想的图形。平行光源1、平行光机保养时,清洁反光罩上面的灰尘,通常使用掸子掸落灰尘,再用吸尘器吸附。2、检查过滤器有无堵塞。不同的干膜根据其特性不同所需曝光能量不同,曝光能量的测量可以用能量表或曝光尺。曝光尺有21级、17级、25级曝光尺,常用的是21级曝光尺,其第一级光密度为0.05,以后每级以光密度差D为0.15递增,第21级3.05。做曝光尺应注意,不同的干膜有不同能量。曝光尺不同的干膜在相同能量下曝光尺的级数不同,因此做曝光尺时应择与生产相同的干膜。注意曝光能量曝光能量太高,会导致线幼,干膜变脆。曝光能量太低,单体聚合不完全,干膜盖孔能力变差,显影后色泽暗淡,线路不清晰。曝光能量的影响曝光能量=灯管强度X曝光时间曝光能量是什么?灯管强度高灯管强度低灯管强度1、灯源太脏——清洁2、反光照太脏——清洁3、灯管使用寿命已到——更换灯管强度减弱的原因曝光能量与反应的关系光密度25级光尺21级光尺31级光尺41级光尺0.0010.05110.10220.1530.202340.2550.30460.35370.40580.4590.50146100.552110.6037120.6545130.7058140.756150.80769160.858170.90910180.95107191.001111201.0512211.1013812221.1514231.201513241.25169251.301714261.3518271.40191015281.452029曝光尺确定能量将菲林与板之间的空气排出,避免菲林与板之间存在气泡,而导致光线折射,使图像失真。目的a.真空框的密封性b.抽真时间c.真空泵工作收况d.擦真空好坏决定效果的决定因素抽真空及赶气1、刚刚合上框架,抽真空时,赶气力度不可过大。以免菲林与偏移2、厚板由于麦拉膜的真空时的变形会引起菲林的移动,所以单面曝光较合适赶气与偏位牛顿环判断真空效果(有牛顿环出现,且不移动)1、牛顿环出现,当不再移动,表示气体已经不在流动且接近真空。2、在光面与光面接触的地方容易形成并发现。真空不良导致的曝光不良导气条太厚导气条太薄导气条合适菲林定位图示菲林定位改善1、板面质量:1)减少板边杂质颗粒,减少搬运过程。2)减少贴膜后的膜碎2、菲林检查:1)菲林上到玻璃台面前,检查清洁台面菲林。2)上菲林之后,检查菲林与台面之间。3)曝光过程当中,抽真空的影响,灰尘会移动到各处。曝光后干膜未发生聚合反应的部分单体会向已曝光部分扩散迁移,增加了曝光部分干膜的密度,同时未曝光部分形成空穴。单体为非极性,未曝光部分更容易显影。曝光后静置LDI光学系统LDI光学系统LDI定位原理VacuumTablePCBPanelOpticalRegistrationHolesLDI特点1.不需要绘制菲林2.对位精度高3.不容易产生固
本文标题:PCB光成像工艺知识
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