多晶硅生产过程分析整体方案

1，2，3（1．，221007；2．，221004；3．（），310052）：、、、；。：；；；：TQ127.2：B：1009－1785(2010)03－0014-03WholeschemeofproductionprocessanalysisofpolycrystallinesiliconZHUDuan-ming1,XUJin-ting2,ZHENGXiu-qin3(1.XuzhouChemicalIndustryDesign&ResearchInstituteCo.,Ltd.,Xuzhou221007,China;2.JiangsuZhongnengPolysiliconTechnologyCo.,Ltd.,Xuzhou221004,China;3.JuguangTechnology(Hangzhou)Co.,Ltd.,Hangzhou310052,China)Abstract:Thenecessityofanalysisofpolycrystallinesiliconproductionprocesswasdiscussedfromseveralaspects,includingprocesscontrol,corrosionprotection,andsafetymonitoringandenvironmentmoniotring.Thewholeschemeofproductionprocesswasputforward.Keywords:polycrystallinesilicon;processanalysis;spectroanalysis;gasdetectionandalarmdevice1，、、，。—，，，CVD。、、、，Cl2、HCl、H2。，，，。22．1，，，，。，，、、。，，。，。TCS，TCS；，CVD；，ChinaChlor－Alkali320103No．3Mar.,201014。，Si-OSi-Cl，，SiHCl3，，，。，。，。2．2Cl2、HCl，。，，。，、、，，，。2．3H2，，，。，、，、，。，，H2。，，。2．4。，。33．1（），（），。，、、、，、、、。（1）LGA-4500SiHCl3，，，，，，，。：0~100%；：≤±1%F·S；：ExpxmdCT5；：IP65；：5s（1s）。（2）OMA-3010SiCl4/SiHCl3/SiH2Cl2/Cl2，、Cl2，。，，，。：0~1505000×10-6（Cl2），0~100%（SiCl4，SiHCl3，SiH2Cl2）；：≤±2%，≤±1%（Cl2），≤±3%（SiCl4，SiHCl3，SiH2Cl2）；：ExpxmdCT4；：IP65；：10s。（3）LGA-4500/HCl，，，，，，，。：0~100500×10-6（H2O）；0~100×10-6（HCl）；：≤±1%F·S；：ExpxmdCT5；：IP65；：5s（1s）。（4）GRP-18，，、、。10-6，。：0~10×10-6，0~100×10-6，0~1000×10-6，0~1%，0~25%；：1%F·S；：0.5%F·S；：Class1，Division1，GroupsB，C，D；：T9010s。（5）GC-1000（TCD），Y-（），“-”，PC3，：1520103。：，，，＋，。：JIS，FM/CSA，CENELEC；：31；：255；：99999.9s；：55~225℃（），5~320℃（：1~30℃/min）：±0.03℃PID；：；I/O：AI(4),AO(36),DI(8)，DO(8)，RS422/RS232C，PCcom，GCCUcom，GCNetwork。（6）K1550TCD，，，。（7）CEMS-2000（DOAS），SO2、NOx、O2，、。，，，SO2，SO2。、，。（8）SWA-2000（COD）（SAC）、pH、、、、、、、、，，。，，，，，，，。（9）GT，、、，、、，，RC，、、、，。，，。、《GB50493—2009》。3．2，，，。、，（），。，。，，，，，。，，，，。（）。，（、、），，，（），。4，，，。，“”，。：2009-10-12!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!《》，，，《》（《》）。《》。《》，、，。，《》，，，《》；、，《》，（）。16