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5.3MOSFET的直流电流电压方程以N沟道MOSFET为例,推导MOSFET的ID~VD方程IDVD推导时采用如下假设①沟道电流只由漂移电流构成,忽略扩散电流;②垂直电场与水平电场是互相独立的采用缓变沟道近似,即:yExEyxyx或|,|||2222这表示沟道厚度沿y方向的变化很小,沟道电子电荷全部由感应出来而与无关;xExyEy附:泊松方程syxzEEEExyzVD5.3.1非饱和区直流电流电压方程③沟道内的载流子(电子)迁移率为常数;④采用强反型近似,即认为当表面少子浓度达到体内平衡多子浓度(也即S=S,inv)时沟道开始导电;⑤QOX为常数,与能带的弯曲程度无关。当在漏极上加VDVS后,产生漂移电流,yVnqnEqJyddnnnbyVQZyVxqnZI0nnnDddddd式中,代表沟道内的电子电荷面密度。bxqnQ0nd)(1、漏极电流的一般表达式(5-36)VQLZIVVdDSnnDDSddnn0DVVLVQZyIVQZyIddnnDyVQZIddnnD(5-37)(5-36)当VGVT后,沟道中产生的大量电子对来自栅电极的纵向电场起到屏蔽作用,所以能带的弯曲程度几乎不再随VG增大,表面势S也几乎维持S,inv不变。于是,2、沟道电子电荷面密度QnASFBBGOXAOXOXAMASnQVVVCQVCQQQQQ)(QAQMQnAinvS,FBBGOXnQVVVCQ)(当外加VD(VS)后,沟道中将产生电势V(y),V(y)随y而增加,从源极处的V(0)=VS增加到漏极处的V(L)=VD。这样S,inv、xd与QA都成为y的函数,分别为S,invFPB12sdFPBA12AAdsAFPB()22()2()()22()yVVyxyVVyqNQyqNxqNVVy将上面的S,inv和QA代入沟道电子电荷面密度Qn后,可知Qn也成为y的函数,即21BFPAsFPFBGOXn)(22)(2)(yVVqNyVVVCyQ将Qn代入式(5-37)23SBFP23DBFPOX21As2S2DSDFPFBGOXnD22232212VVVVCNqVVVVVVCLZI下面对上式进行简化。VQLZIVVdDSnnD3、漏极电流的精确表达式并经积分后得将Qn中的在V=0处用级数展开,21BFP)(2yVV21BFP21BFP21BFP222)(2VVVyVV当只取一项时,21BFP21BFP2)(2VyVV当VS=0,VB=0时,可将VD写作VDS,将VG写作VGS,则Qn成为:4、漏极电流的近似表达式将此Qn代入式(5-37)的ID中,并经积分后得2DSDSTGSOXn0TGSOXnD21)(d)(DSVVVVCLZVyVVVCLZIVOX21FPAsFPFBGSOX22)(2(CNqyVVVC])([TGSOXyVVVC21FPAsFPFBGSOXn22)(2)(qNyVVVCyQ(5-50)再将写作,称为MOSFET的增益因子,则OXnCLZ2DSDSTGSD21)(VVVVI式(5-51)表明,ID与VDS成抛物线关系,即式(5-51)只在抛物线的左半段有物理意义。IDsatIDVDSVDsat0(5-51)2TGS2DsatDsatTGSDsat2121)(VVVVVVI此时所对应的漏极电流称为饱和漏极电流IDsat,这一点正好是抛物线的顶点。所以VDsat也可由令而解出。0ddDSDVITGSsatDVVV由Qn的表达式可知,在y=L的漏极处,DSTGSOXn)(VVVCLQ可见|Qn(L)|是随VDS增大而减小的。当VDS增大到被称为饱和漏源电压的VDsat时,Qn(L)=0,沟道被夹断。显然,(5-52)(5-53)当VDSVDsat后,简单的处理方法是从抛物线顶点以水平方向朝右延伸出去。以不同的VGS作为参变量,可得到一组ID~VDS曲线,这就是MOSFET的输出特性曲线。对于P沟道MOSFET,可得类似的结果,2TGSDsatTGSDsat2DSDSTGSD)(2121)(VVIVVVVVVVI式中,OXpCLZ以上公式虽然是近似的,但因计算简单,在许多场合得到了广泛的应用。5、沟道中的电势和电场分布DnnddVIZQy将代入式(5-36),得nOXGST()()QyCVVVy(5-56)nOXGSTd()dVZCVVVyy令上式与式(5-51)将上式沿沟道积分,可解得沟道中沿y方向的电势分布V(y)为2GSTDSDSGST11()d()d2VVVVyVVVVL相等,得到一个微分方程,2DnOXGSTDSDS1()2ZICVVVVL12GSTGSTeff()1yVyVVVVy式中,DSGST1VVV对V(y)求导数可得到沟道中沿y方向的电场分布Ey(y)为DSGSTGSTDSy1122effeffeff2d()d2211VVVVVVVEyyLyyyyyeff21Ly当VDS=VDsat时,η=0,yeff=L,沟道电势分布和沟道电场分布分别成为12GSTGST()1yVyVVVVLGSTy122()2VVEyLLy(5-59)(5-60)6、漏极电流的一级近似表达式当在级数展开式中取前两项时,得FPFPFP2222VV21FP2)(V经类似的计算后可得:式中,FPFPOXAs222212KCNq以上公式与不对做简化的精确公式已极为接近。1)(211)1(21)(2TGSDsatTGSDsat2DSDSTGSDVVIVVVVVVVI21FP2)(V实测表明,当VDSVDsat后,ID随VDS的增大而略有增大,也即MOSFET的增量输出电阻不是无穷大而是一个有限的值。DDSdsIVr5.3.2饱和区的特性通常采用两个模型来解释ID的增大。当VDSVDsat后,沟道中满足V=VDsat和Qn=0的位置向左移动L,即1、有效沟道长度调制效应已知当VDS=VDsat时,V(L)=VDsat,Qn(L)=0。satD)(VLLV0)(nLLQ这意味着有效沟道长度缩短了。L0yVDsatV(y)L①②③图中,曲线①代表VDSVDsat,曲线②代表VDS=VDsat,曲线③代表VDSVDsat而V(L-L)=VDsat。21TGSDSAs21DsatDSAs22VVVqNVVqNL当VDSVDsat后,可以将VDS分为两部分,其中的VDsat降在有效沟道长度(L-L)上,超过VDsat的部分(VDS-VDsat)则降落在长度为L的耗尽区上。根据耗尽区宽度公式可计算出L为由于,当L缩短时,ID会增加。LI1D若用I’Dsat表示当VDSVDsat后的漏极电流,可得当L较长或NA较大时,较小,电流的增加不明显,rds较大;反之,则电流的增加较明显,rds较小。LLLLILLLVVCLZVVCLLZI11)(21)(21Dsat2TGSOXn2TGSOXnDsat对于L较短及NA较小的MOSFET,当VDSVDsat后,耗尽区宽度接近于有效沟道长度,这时从漏区发出的电力线有一部分终止于沟道上,使沟道电子的数量增多,从而导致电流增大。可以把此看作是在漏区与沟道之间存在一个电容CdCT,当VDS增加VDS时,沟道区的电子电荷面密度的增量为ZLVCQDSdCTAV2、漏区静电场对沟道的反馈作用输出特性曲线:VGSVT且恒定时的VDS~ID曲线。可分为以下4段:MOSFET的直流电流电压方程(1)线性区:,忽略沟道压降的影响忽略源漏串联电阻,对整个沟道积分:)(TGSDSVVVdyydVVVCWITGSoxnD)()(DSTGSDSTGSnoxDVVVVVVLWCI)()((2)非饱和区:当VDS较大时,沟道压降V(y)随VDS的增加而增大,使沟道逐渐减薄。即考虑沟道压降V(y)的影响:(3)饱和区:当时,漏端沟道消失而夹断;当VDS大于夹断电压VDsat后,沟道内夹断点向源端移动,使有效沟道长度随漏源电压增大而缩短。21[()]2DGSTDSDSIVVVVDSGSTVVVTGSDSVVV2)(2TGSDSatVVI练习题1、某N沟道MOSFET的VT=1V,β=10-3AV–2,试求当VGS=4V,而VDS分别为2V、3V、4V时的漏极电流之值。2、试求该MOS管当VDS=2V,VGS分别为2V、3V、4V时的漏极电流之值。2DSDSTGSD21)(VVVVITGSsatDVVV2TGS2DsatDsatTGSDsat2121)(VVVVVVI
本文标题:5-3--MOSFET-的直流电流电压方程
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