DB313742006半导体行业污染物排放标准

ICS上海市地方标准DB31/374—2006半导体行业污染物排放标准Thedischargestandardsofpollutantsforsemiconductorindustry（发布稿）2006-11-01发布2007-02-01实施DB31上海市环境保护局上海市质量技术监督局发布DB31/374—2006I目次前言......................................................................................................................................................................II1范围..................................................................................................................................................................12规范性引用文件..............................................................................................................................................13术语和定义......................................................................................................................................................14技术内容..........................................................................................................................................................25监测..................................................................................................................................................................56标准的实施与监督..........................................................................................................................................9DB31/374—2006II前言为贯彻《中华人民共和国环境保护法》、《中华人民共和国水污染防治法》、《中华人民共和国大气污染防治法》、《中华人民共和国海洋环境保护法》，加强半导体企业污染物的排放控制，保障人体健康，维护生态平衡，结合上海市实际情况，制定本标准。本标准主要有以下特点：1）适用于半导体企业水污染物、大气污染物排放的管理；2）水污染物排放根据功能区执行分级标准；3）大气污染物排放不根据功能区进行分级；4）对现有半导体企业规定达到挥发性有机物（VOCs）排放标准的时限，对其余污染源不再按建设时间规定排放限值。半导体企业的噪声控制、固体废物控制按国家和本市的有关规定执行。本标准实施之日起，半导体企业水污染物排放按本标准执行，不再执行DB31/199-1997《污水综合排放标准》；半导体企业大气污染物排放按本标准执行，不再执行GB16297-1996《大气污染物综合排放标准》。本标准为首次发布。本标准由上海市环境保护局提出并归口。本标准由上海市环境科学研究院和上海市集成电路行业协会负责起草。本标准由上海市人民政府2006年10月13日批准。本标准由上海市环境保护局负责解释。DB31/374—20061半导体行业污染物排放标准1范围本标准规定了半导体企业的水污染物和大气污染物排放标准值。本标准适用于半导体企业的水污染物排放管理、大气污染物排放管理，以及半导体企业建设项目环境影响评价、建设项目环境保护设施设计、竣工验收及其投产后的污染控制与管理。2规范性引用文件下列标准和本标准表5、表6所列分析方法标准及规范所含的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款，与本标准同效。GB3095环境空气质量标准GB3097海水水质标准GB3838地表水环境质量标准GB/T12997水质采样方案设计技术规定GB/T12998水质采样技术指导GB/T12999水质采样样品的保存和管理技术规范GB13271锅炉大气污染物排放标准GB/T16157固定污染源排气中颗粒物测定与气态污染物采样方法GB16297大气污染物综合排放标准HJ/T91地表水和污水监测技术规范HJ/T92水污染物排放总量监测技术规范当上述标准和规范被修订时，应使用其昀新版本。3术语和定义下列术语和定义适用于本标准：3.1半导体企业semiconductorindustry指从事半导体分立器件或集成电路的制造、封装测试的企业。3.2特殊保护水域specialprotectedwaterarea指经国家或上海市人民政府批准的自然保护区范围内水域；GB3838中II类水域；由本市各区、县DB31/374—20062人民政府规定的居民集中式生活饮用水取水口卫生防护带水域。3.3废气处理设施exhaustgascontroldevices指处理废气的湿式洗涤塔、焚烧塔、吸收塔、冷凝塔或其他设备，但不包括工艺中设备自带的预处理设备。3.4密闭排气系统closedventsystem指可将设备或设备组件排出或逃逸的空气污染物捕集并输送至废气污染防治设备，使传送的气体不直接与大气接触的系统。3.5现有污染源和新污染源existingpollutuionsourceandnewpollutionsource现有污染源指2007年2月1日前建设的半导体企业。新污染源指2007年2月1日起建设（包括改、扩建）的半导体建设项目。建设项目的建设（包括改、扩建）时间，以环境影响报告书（表）批准日期为准。4技术内容4.1水污染物排放标准4.1.1标准分级4.1.2.1特殊保护水域内不准新建排污口。原有排污口执行表1中的A标准和表2中的特殊保护水域标准。4.1.2.2排入GB3838中III类水域和排入GB3097中第二类海域的污水执行表1中的A标准和表2中的一级标准。4.1.2.3排入GB3838中IV、V类水域和排入GB3097中第三类海域的污水执行表1中的B标准和表2中的二级标准。4.1.2.4排入设置二级污水处理厂的排水系统的污水执行表1中的B标准和表2中的三级标准。4.1.2.5排入未设置二级污水处理厂的排水系统的污水，必须根据下水道出水受纳水域的功能要求，执行4.1.2.1、4.1.2.2、4.1.2.3的规定。4.1.3标准值分类4.1.3.1本标准将污染物按其性质及控制方式分成二类。4.1.3.1.1第一类污染物，不分污水排放方式和受纳水体的功能类别，一律在车间或车间处理设施排放口采样，其昀高允许排放浓度应达到本标准要求。4.1.3.1.2第二类污染物，在排放单位排放口采样，其昀高允许排放浓度应达到本标准要求。4.1.3.2本标准对氟化物、悬浮物（SS）、生化需氧量（BOD5）、化学需氧量（CODCr）、氨氮、总有机碳（TOC）6项污染物均规定了以日均值计的昀高允许排放浓度和以瞬时值计的昀高允许排放浓度两项指标，这6项污染物的排放应同时遵守上述两项指标。其他污染物的昀高允许排放浓度以日均值计。4.1.4标准值DB31/374—20063半导体企业的水污染物排放执行表1和表2的规定。表1第一类污染物最高允许排放浓度(日均值)单位：mg/L序号污染物A标准B标准1总镉（按Cd计）0.010.12总铬（按Cr计）0.150.53六价铬（按Cr6+计）0.050.10.24总砷（按As计）0.050.3（砷化镓工艺）5总铅（按Pb计）0.11.06总镍（按Ni计）0.10.57总银（按Ag计）0.10.1表2第二类污染物最高允许排放浓度单位：mg/L（pH值除外）序号污染物特殊保护水域标准一级标准二级标准三级标准1氟化物（按F计）8(10.4)10(13)10(13)202总铜（按Cu计）0.20.5113硫化物（按S计）0.51114总氰化物（按CN-计）0.20.20.20.55pH6~96~96~9－6悬浮物（SS）50(65)70(91)100(130)－7生化需氧量（BOD5）15(20)20(26)30(39)－8化学需氧量（CODCr）60(78)80(104)100(130)－9氨氮（NH3-N）8(10.5)10(13)15(19.5)－10总有机碳（TOC）18(23)20(26)30(39)－注：表中括号内的标准限值为瞬时值；无括号的标准限值，除pH值外，其余均为日均值。4.2大气污染物排放标准4.2.1标准体系本标准设置下列三项指标：4.2.1.1通过排气筒排放的污染物昀高允许排放浓度。DB31/374—200644.2.1.2通过排气筒排放的污染物，按排气筒高度规定的昀高允许排放速率。任何一个排气筒应同时遵守上述两项指标，超过其中任何一个均为超标排放。4.2.1.3挥发性有机物（VOCs）处理设施的昀低处理效率。4.2.2标准值4.2.2.1位于GB3095中一类区的污染源禁止排放表3所列的大气污染物。4.2.2.2大气污染物排放的昀高允许排放浓度和昀高允许排放速率执行表3的规定。4.2.2.3挥发性有机物处理设施的昀低处理效率执行表4的规定。4.2.2.4半导体企业产生的大气污染物应由密闭排气系统导入废气处理设施后排放，不应有无组织排放存在。表3大气污染物排放限值昀高允许排放速率序号污染物昀高允许排放浓度(mg/m3)排气筒高度(m)排放速率(kg/h)151.5202.61硫酸雾10308.8150.26200.432氯化氢15301.4150.1200.173氟化氢1.5300.59154.9208.74氨-30205挥发性有机物(VOCs)100a--a现有污染源自2008年1月1日起执行该限值；新污染源自2007年2月1日起执行该限值。DB31/374—20065表4挥发性有机物（VOCs）处理设施的最低处理效率适用范围处理设施的昀低处理效率挥发性有机物（VOCs）排放速率0.6kg/h88％aa现有污染源自2008年1月1日起执行该限值；新污染源自2007年2月1日起执行该限值。4.2.3为减少全氟化物（PFCs）排放对环境产生的影响，集成电路制造企业宜制订PFCs排放的年削减计划，通过优化工艺、原料替代、循环利用、污染治理等措施减少PFCs的排放。4.2.4其他规定4.2.4.1排气筒高度不应低于15m。4.2.4.2排气筒高度除应遵守表3所列排放速率标准值外，还应高出周围200m半径范围的建筑5m以上，不能达到该要求的排气筒，应按其高度对应的表3所列排放速率标准值严格50%执行。4.2.4.3两个排放相同污染物（不论其是否由同一生产工艺过程产生）的排气筒，若其距离小于其几何高度之和，应合并视为一根等效排气筒。若有三根以上的近距离排气筒，且排放同一种污染物时，应以前两根的等效排气筒，依次与第三、四根排气筒取等效值。等效排气筒的有关参数计算方法同GB16297-1996中附录A。4.2.4.4若某排气筒的高度处于本标准列出的两个值之间，其执行的昀高允许排放速率以内插法计算；当某排气筒高度大于本标准列出的昀大值（30m）时，应按本标准列出