污水处理调试总结

远洋药业污水处理调试总结1、工程概述本污水处理项目采用脱氨塔－芬顿氧化－厌氧－好氧接触氧化处理工艺，废水先经过脱氨塔处理，通过蒸汽吹脱法将废水调至碱性，然后在吹脱塔中通入蒸汽，经过气液接触将废水中的游离氨吹脱出来。然后废水中的有机物通过芬顿氧化对COD进行去除，为后续好氧生物处理创造有利条件。废水经过厌氧池和EGSB池去除有机污染物，而后在接触氧化池充分曝气供氧的条件下，废水中剩余的有机物在好氧菌作用下充分利用水中溶解氧得到充分降解和去除，废水COD达到排放要求。好氧生化处理后出水仍含有一定量的悬浮物、细菌和杂质，根据需要可再经过后续混凝沉淀处理，通过投加PAC，将水中的悬浮物杂质、细菌和部分难降解有机物有效除去，使出水COD等指标达到排放要求。所排放的废水要求处理后达到《污水排入城镇下水道水质标准》(CJ343-2010)，设计进出水水质指标见下表所示。设计进出水指标项目PHCODcrBOD5SSTPNH3-N进水7.520000mg/L7000mg/L400mg/L8mg/L400mg/L出水6~9500mg/L350mg/L400mg/L5mg/L45mg/L2、调试与试运行2014年12月，现场基本具备污水处理的调试要求和条件，开始工艺调试。2014年12月往各生化池中投入附近企业污水处理的接种污泥，由于刚开始企业没有正式生产，没有硫磺酸废水产生，只有少量BPO废水，COD含量较低，通过脱氨塔处理后只有600mg/l左右，但此种废水Cl-含量很高，达到14000mg/l左右，需要稀释7倍后开始进水，并每天往厌氧池和曝气池里加入适量化粪池废水，同时将其pH维持在8左右，使微生物有较适宜的生长环境，对其连续曝气循环培养和驯化，待接触氧化池水位达到池体一半高度时，减少稀释倍数进行进水。12月18日以前，系统没有往外排水，12月10日三相接触氧化池管道进行改造，从12月19日开始恢复生产，此阶段由于加入接种污泥时间较短，驯化还未成熟，主要目的是对接触氧化池进行挂膜，系统CODcr变化如图1所示。恢复生产后每天进水大概60m3，进水开始为硫磺酸和BPO混合废水，系统CODcr明显升高，并且维持一个总体不断上升的趋势，好氧池出水CODcr开始也随着上升，后又趋于稳定，保持在150mg/l左右。由于进水Cl-含量不稳定，在5000－10000mg/l之间波动，稀释倍数从7倍开始每天减少，从28号开始最终维持在每次脱氨塔出水稀释1.5倍后进入系统。此阶段系统CODcr变化如图2所示。这段期间，脱氨塔出水氨氮一开始维持在300mg/L左右，12月27日氨氮逐渐升高，12月29日达到1028mg/L，导致出水氨氮从30mg/L增加到46mg/L，后续脱氨塔出水氨氮一直保持上升趋势，虽然偶尔会降到低于400，但脱氨塔出水氨氮一直不稳定且居高不下。出水氨氮超标原因分析：1、脱氨塔出水氨氮超过系统处理负荷；2、接触氧化池没有污泥回流管道，活性污泥流失过多，导致处理氨氮能力下降；3、污泥脱水机缺少加药装置，导致絮凝沉淀池长时间无法排泥，沉淀污泥厌氧发酵。此阶段系统NH3-N变化如图3所示。3.调试过程中出现的问题：（1）污泥量流失严重在调试过程中，接触氧化池活性污泥随着出水不断流失到絮凝沉淀池，导致好氧池污泥越来越少。（2）絮凝沉淀池沉淀污泥长时间无法排泥由于脱水机缺少加药装置，导致絮凝沉淀池沉淀的大量污泥无法脱泥，时间过长污泥厌氧发酵，污泥开始上浮。(3)水质波动大脱氨塔出水水质很不稳定，废水中氨氮浓度突然急剧升高，导致废水NH3-N值高于400，甚至超过2000，给处理系统造成了很大冲击，影响了生化系统的稳定性。（4）泡沫问题在调试期间，自从正常进入生产废水后，接触氧化池表面有大量泡沫出现，根据现场情况分析，产生大量泡沫的可能原因有：○1废水中含有表面活性剂；○2污泥量不足。（5）芬顿加碱装置流量不足根据实验结果，废水PH调至3芬顿氧化反应后，需要调回中性，进水流量10m3/h，实验投加NaOH(30%)为17ml/L左右才能将废水调至中性，NaOH(30%)投加量为10*17=170L/h，目前加药装置最大流量为12L/h，需要进行更换。拟采取的处理措施（1）絮凝沉淀池排泥管道上增加污泥回流管道，将絮凝沉淀池沉淀污泥回流到接触氧化池，提高污泥浓度并增加挂膜效果，避免污泥在絮凝沉淀池厌氧发酵。（2）要求企业采取措施降低脱氨塔出水氨氮，保持在400以下进入系统，并避免氨氮突然增大，影响生化系统的稳定。（3）采购脱水机加药装置，防止后续接触氧化池污泥浓度增加过高，需要进行排泥。（4）要求企业尽量减少进水表面活性剂含量，并建议购买消泡剂对接触氧化池大量泡沫进行消除。（5）因为加碱装置流量太小，导致芬顿氧化未启用，需要重新购买进行更换，但由于出水COD一直很稳定，且达到排放要求，根据设计院意见，暂时先不换加药泵，等以后出现问题再说。