6-8英寸硅抛光片扩产项目

建设项目环境影响报告表项目名称：6-8英寸硅抛光片扩产项目建设单位：宁波立立电子股份有限公司(盖章)编制日期：2006年2月18日浙江省环境保护局制环评文件确认书建设单位宁波立立电子股份有限公司项目名称6-8英寸硅抛光片扩产项目项目地址宁波保税东区港东大道20号投资额35000万元法定代表人李立本联系电话574-86821903宁波市环保局：我公司委托宁波市环科院编制的“宁波立立电子股份有限公司6-8英寸硅抛光片扩产项目环境影响报告表”经我公司审核，同意该环评文件所述内容，并承诺做到如下环保措施：1、废气治理：本项目主要为硅片化腐废气，通过集气罩经引风机送入废气水洗塔处理后，可以达到《大气污染物综合排放标准》(GB16297-1996)二级排放标准。2、废水治理：本项目生产废水可以接入生产废水处理设施，经调节中和、混凝沉淀、A/O生化处理后可以达到岩东污水处理厂进网标准，通过保税区污水管网系统排入岩东污水处理，再经岩东污水处理厂二级生化处理后排海。3、噪声治理：本项目噪声主要为各类设备运行噪声，生产车间噪声在70～85dB之间，对有振动设备均应设防震基础或减震垫，确保厂界噪声达到《工业企业厂界噪声标准》(GB12348-90)Ⅲ类标准。4、固废治理：生产过程中产生固废物通过分类收集，分质处置的原则，对废多晶硅锭进行回收利用；废水处理装置排放污泥、生活垃圾由环卫部门清运。5、其它：如改变生产内容和规模，将重新进行相应的环境影响评价及审批。宁波立立电子股份有限公司(盖章)法定代表人(签字)：2006年月日备注项目名称：6-8英寸硅抛光片扩产项目环评类型：环境影响报告表评价单位：宁波市环境保护科学研究设计院(公章)项目名称：6-8英寸硅抛光片扩产项目环评类型：环境影响报告表项目编号：20060117项目负责人：蔡锡明评价人员情况姓名从事专业职称上岗证号职责签名蔡锡明环境工程高工环评岗证字第A20040026号填表赵永才环境工程高工环评岗证字第A20040018号审核-1-建设项目基本情况项目名称6-8英寸硅抛光片扩产项目建设单位宁波立立电子股份有限公司法人代表李立本联系人乐永幸通讯地址宁波保税东区港东大道20号联系电话86881150传真86881152邮编315800建设地点宁波保税东区港东大道20号立项审批部门宁波市发改委批准文号甬发改备[2005]58号建设性质新建改扩建√技改行业类别及代码C41占地面积22368.82㎡绿化面积8276㎡总投资35000(万元)其中：环保投资230万元环保投资占总投资比例0.65%评价经费万元预期投产日期2006年1月工程内容及规模1、项目背景宁波立立电子股份有限公司(以下简称“立立电子”)系由浙江大学半导体学科相关的技术和管理人员共同组建的股份制企业，于2000年6月21日在宁波保税区注册成立。五年来，通过贯彻“立信、立德、务实、创新”的理念，遵循着“追求纯净完美，满足顾客期望”的宗旨，致力于重掺系列硅单晶锭、硅抛光片、外延片及复合半导体材料的研制。公司在技术上以浙江大学硅材料科学国家重点实验室、浙江大学半导体材料研究所为依托。并拥有一批高素质的技术骨干，在全部512名员工中，本科以上学历有114人，其中高级职称20人，博士5人，硕士40人。公司拥有十多项核心技术发明专利，独创了酸腐蚀工艺、有蜡贴片工艺、多层外延片工艺。公司占地面积5万平方米，均按国际一流的生产要求设计，专用厂房最高净化级别为0.1μm10级。公司相继通过了瑞士SGS公司的ISO9001：2000和QS9000：1998质量体系认证，目前正在推行TS16949/ISO14000的认证工作。公司是国家“863”计划成果产业化基地，国家级重点高新技术企业，设有企业博士后流动站。目前，立立电子已成为中国唯一拥有硅单晶锭、抛光片、外延片、芯片制造的完整产业链的企业。拥有三家控股子公司宁波立立半导体有限公司、杭州立昂电子有限公司和杭州立立科-2-技实业有限公司。立立电子从成立之初的年销售不过500万元、资产总额3000万元，经过近五年来的发展成为注册资本金达7108万元，股东权益2.16亿元，资产总额5.81亿元，年销售达3.7亿元的公司规模，成为全国七家年产值超亿元的硅材料生产企业之一。目前是国内已建成的最大的4-6英寸重掺砷、磷、锑、硼单晶锭，硅抛光片、外延片的生产基地，生产能力年产单晶锭120吨、抛光片300万片、外延片30万片。产品已提供给国内外一批晶圆厂商，如上海先进、上海新进、上海贝岭、杭州士兰、无锡华晶、美国Fairchild、美国IR、美国TI、日本NEC。并与国际著名的ST公司和美国ONSEMI公司建立了良好的战略合作伙伴关系，市场可以得到保障。在战略远景规划上,公司将通过多种筹资渠道募集资金等来解决发展问题，拟在未来的三年中投入5-7亿元人民币技术改造资金，进一步提高重掺单晶硅锭产量和硅外延片生产规模,提高公司在集成电路行业内的核心竞争力，建立中国最大的具有国际影响力的年产300吨4-8英寸重掺单晶硅锭和420万片4-8英寸重掺系列硅抛光片、140万片4-8英寸重掺系列硅外延片和30万片6英寸功率芯片的生产基地，分别位列全球市场规模的前列，使公司年销售规模达到8-10亿元，成为全球半导体材料行业排名前十位的知名供应厂商。力争在经过的20-30年的努力成长为全球半导体材料一流的制造商。根据我国半导体集成电路市场和半导体材料市场发展需要，宁波立立电子股份有限公司在公司现有厂房和完善的检测设备及处理系统的基础上，扩大6-8英寸硅抛光片的生产，根据《中华人民共和国环境影响评价法》和《建设项目环境保护管理条例》，为了切实做好环保工作，宁波立立电子股份有限公司委托宁波市环境保护科学研究设计院对该本项目进行环境影响评价工作。2、生产内容及规模根据项目可行性报告，本项目主要进行硅抛光片的生产，项目建成后公司将新增月产25万片6-8英寸硅抛光片；产品可用于生产MOS、双极型集成电路及集成电路外延衬底片等。-3-与本项目有关的原有污染情况及主要环境问题本项目相关企业主要有宁波立立半导体有限公司和宁波立立电子股份有限公司，上述二企业所有公用工程设施为共用，根据硅外延片生产工艺，硅外延片的生产一般可分三步：第一步是单晶硅晶锭的生产，是利用单晶炉将半导体级多晶硅在最高温度达1700℃的热场中熔化，然后通过籽晶生长在用户所需的直径和电学参数的单晶硅锭；第二步是将硅锭进行切、磨、抛加工，转化成抛光片；第三步在抛光片基础上，在特定的气相反应炉内在硅片的正表面生长一层簿膜加工成外延片。其生产工艺流程分工如下：立立电子立立半导体多晶硅多晶硅检验备料晶体生长取样、分析测试晶锭分段滚园切片切片清洗检验石英坩埚制作参考面检验晶锭粘结磨片化腐背面处理倒角研磨硅片热处理检验硅片边沿抛光贴片硅片表面抛光抛光片清洗检验外延外延清洗检验抛光液最终产品质量检验包装检验检验检验研磨砂立立电子立立半导体入库-4-根据生产分工情况，其二个企业目前主要包括已建工程、在建研发项目、公用工程概况及三废排放情况如下：一、已建工程概况1、宁波立立半导体有限公司生产及污染情况(1)企业概况宁波立立半导体有限公司成立于1998年，主要从事单晶硅片的加工生产，由宁波立立电子股份有限公司全资控股。其年生产能力为单晶硅抛光片300万片，注册资本5000万元，职工定员175人。(2)生产工艺其生产工艺及排污位置如下：(3)主要设备其主要生产设备如下：序号名称数量单位序号名称数量单位127英寸切片机31台6硅片干燥机8台216英寸切片机5台7自动硅片热处理炉6台3磨片机12台8高纯水设备30t/h1套4倒角机15台高纯水设备12t/h1套5硅片清洗机22台9压缩空气系统20m3/h7套成品晶锭切片切片检验热处理清洗倒角烘干革命检验抛光腐化研磨切割废水碱性废水研磨废水废气包装抛光片产品外延外延清洗检验检验硅外延片产品废气废水废水-5-(4)主要原材料消耗主要原材料消耗量如下：序号名称用量序号名称用量1单晶硅100t/a6行星片500片/a227英寸内园刀片100片/a7冷却液40t/a316英寸内园刀片2000片/a8研磨液10t/a4倒角砂轮120片/a9硅片包装盒20000个/a5研磨砂100t/a根据现有企业实际情况，其生产用水45t/d，纯水用量146t/d。(5)三废排放情况①废水：根据生产工艺调查，生产过程废水产生情况为：切割废水产生量6t/d，其废水水质：COD150mg/l，SS1000mg/l，PH7.2；研磨废水产生量153t/d，其废水水质：COD610mg/l，SS1000mg/l，PH8.3；酸碱废水产生量20t/d，其废水水质：COD250mg/l，SS100mg/l，PH5.0～11；清洗废水产生量10t/d，其废水水质：COD210mg/l，SS100mg/l，PH6～10；目前厂内进行清污分流，对生产废水排入废水处理站处理达标后排放。②废气：废气主要为腐化工序产生的酸性废气，其主要成份为HF、HNO3，其废气排放量主要通过引风机，采用水洗吸收塔吸收处理后通过排气筒排放。现有5套废气处理装置，其每套处理风量为989.5m3/h，其总废气排放量为4947.5m3/h。废气经处理后正常运行情况下可以达到GB16297-1996《大气污染物综合排放标准》。2、宁波立立电子股份公司生产及污染情况(1)企业概况宁波立立电子股份有限公司系股份制企业，主要股东是浙江大学半导体学科的专家和技术骨干，公司成立于2000年6月，主要经营范围为硅单晶锭、硅单晶抛光片及外延片的制造及销售。注册资本金7108万元，总占地面积90亩。建筑面积20937m2，职工定员165人，公司是目前国内已建成最大的4-6英寸重掺砷、磷、硼、锑单晶锭、4-6英寸硅外延片生产基地；生产厂房面积30000m2，其中净化面积3300m2，最高净化级别0.1μm10级，厂房按国际一流的生产要求设计，一期工程于2000年10月正式投产，二期工程用于硅晶体生长于2001年3月投入试生产，三期-6-外延厂房于2003年12月竣工。(2)生产工艺①单晶硅晶锭生产工艺单晶硅晶锭生产工艺及排污位置如下图：②硅外延片生产工艺硅外延片生产工艺及排污位置如下图：(3)主要生产设备①单晶硅晶锭生产主要生产设备如下：序号名称数量单位序号名称数量单位1单晶炉14台6检测仪器5台2真空泵18台7冷却塔2组3割断机3台8高纯水设备20t/h1套4滚圆机2台5清洗机3台②硅外延片生产主要设备其主要生产设备如下：序号名称型号数量单位序号名称型号数量单位1外延炉PE2061S6台74PP测试仪1台2C-V测试仪1台8清洗机1台3SRP测试仪SSM-20001台9甩干机1台多晶清洗备料单晶生长单晶切段坩埚清洗晶锭滚圆检测酸性废气切割研磨废水酸性废水衬底面检外延生长外延片检测外延片清洗出厂包装外延片面检废气废气-7-4FTIP测试仪1台10外延炉尾气处理系统6台5LTV测试仪1台6颗粒度测试仪ADECR81e1台(4)主要原材料消耗①单晶硅晶锭生产主要原材料消耗如下：序号名称用量序号名称用量1多晶硅48t/a4盐酸1.2t/a2硝酸2.4t/a5氢氧化钠1.2t/a3氢氟酸0.3t/a其用水量为20t/d，其中：工艺用水70t/d；冷却水补充300t/d；生活用水及其它用水30t/d。②硅外延片生产主要原料消耗如下：序号名称年用量单位来源1抛光片32万片宁波立立半导体2石墨基座8只德国SGL3石英钟罩2只意大利LPE4三氯氢硅200kg美国PRAXAIR，香港特气公司5氢氧化钠17460kg6氢氟酸600kg7硝酸2700kg8HCl175kg美国PRP9PH31kg美国PRAXAIR，香港特气公司10B2H61kg美国PRAXAIR，香港特气公司11N278840kg宁波MESSER阳光公司12包装袋13500只根据现有企业实际情况，其生产用水8t/d，纯水用量1t/d。(5)三废处理及排放情况①废气酸性废气：清洗机、化腐机使用氢氟酸