开题报告

本科生的论文开题报告1.论文题目：zno压电薄膜制造瓷砖的研究2.选题意义：2.1理论意义根据当前的物理尖端技术，利用压电陶瓷的特性，利用真空制膜机，使用zno等材料制成可以将压力转化成电能的压电薄膜。2.2实践意义将压电薄膜添加在瓷砖中，铺设在火车站，飞机场等人流量大的地方，从而将人们走过的压力转化成电能以供给照明的用处从而达到节能减排的效果。3.文献综述3.1查阅的文献类型主要有：书籍、期刊3.2文献查阅的方法主要有：图书馆、CNKI、维普、万方3.3参考的著作1．《ZnO压电薄膜的制备与性能表征》作者：许恒星，王金良，唐宁，彭洪勇，范超于2009年8月第38卷第4期《人工晶体学报》摘要：采用射频磁控溅射法在硅(100)衬底上制备高质量的ZnO压电薄膜。利用x射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、压电响应力显微镜(PFM)等仪器研究了薄膜成分，表面形貌和压电性质。结果表明：实验制备的ZnO薄膜具有很好的压电性质，C轴取向和表面粗糙度对薄膜压电特性有很大影响，高度c轴取向生长和表面粗糙度较小的ZnO薄膜表现出更好的压电性质2．《陶瓷薄膜制备及应用》作者：卢旭晨;李佑楚;韩铠;王风鸣;于1999期06版《材料导报》摘要：对各种薄膜制备方法的特点(即物理方法、化学方法)进行阐述,并且从氧化物和非氧化物的角度,综述了陶瓷薄膜作为硬质薄膜、气敏薄膜以及铁电、压电等微电子薄膜的应用。3．《0-3型压电陶瓷/聚合物复合材料的制备工艺新进展》作者：李小兵;田莳;张跃;于2001年04期《功能材料》摘要：03型压电陶瓷/聚合物复合材料具有单相压电陶瓷或聚合物所不具备的良好的综合性能,因此引起了人们广泛的兴趣和研究。本文综述了03型压电复合材料的制备工艺及相应复合材料的压电性能,重点介绍了水解聚合法、凝聚胶体法、溶液聚合法3种新型制备工艺,简要分析各种制备工艺的优缺点,为压电陶瓷/聚合物复合材料(甚至是纳米级压电复合材料)的进一步研究、开发和应用提供依据。4．《用PLD法制备声表面波器件用ZnO薄膜》作者：刘彦松;王连卫;李伟群;黄继颇;林成鲁;于2001年01期《功能材料》摘要：采用脉冲激光淀积(PLD)法在单晶Si(100)衬底上淀积了ZnO薄膜。XRD、TEM和AFM分析表明,淀积的ZnO薄膜具有良好的c轴取向性和表面平整度。通过改变淀积气氛或在纯氧中高温退火,ZnO薄膜的电阻率提高到107Ω·cm。这些结果表明,用PLD法淀积的ZnO薄膜能够满足声表面波(SAW)器件的需要。5．《ZnO薄膜及其性能研究进展》作者：黄焱球;刘梅冬;曾亦可;刘少波;于2001年03期《无机材料学报》摘要：ZnO薄膜是一种具有优良的压电、光电、气敏、压敏等性质的材料，在透明导体、发光元件、太阳能电池窗口材料、光波导器、单色场发射显示器材料、高频压电转换器、表面声波元件、微传感器以及低压压敏电阻器等方面具有广泛的用途．ZnO薄膜的制备方法多样，各具优缺点；而薄膜性质的差异则取决于不同的掺杂组分，并与制备工艺紧密相关．本文综述了ZnO薄膜的制备及性质特征，并对其发展趋势及前景进行了探讨．4.研究设计4.1概念界定zno压电薄膜：ZnO薄膜是一种具有优良的压电、光电、气敏、压敏等性质的材料，在透明导体、发光元件、太阳能电池窗口材料、光波导器、单色场发射显示器材料、高频压电转换器、表面声波元件、微传感器以及低压压敏电阻器等方面具有广泛的用途瓷砖：是以耐火的金属氧化物及半金属氧化物，经由研磨、混合、压制、施釉、烧结之过程，而形成之一种耐酸碱的瓷质或石质等之建筑或装饰之材料，总称之为瓷砖。其原材料多由粘土、石英沙等等混合而成。4.2研究假设通过采用射频磁控溅射法在硅(100)衬底上制备高质量的ZnO压电薄膜可以做到将压力转换为电能的效果。4.3研究内容4.3.1查阅论文期刊，从理论上分析出可以利用zno制作出压电薄膜；4.3.2通过借助我们的指导教师任岳导师实验室中的射频磁控溅射法在硅(100)衬底上制备高质量的ZnO压电薄膜4.3.3检测制作的zno压电薄膜导电能力并结合到瓷砖中从而利用到实践中。4.4研究方法文献法、实验法、观察法等，通过理论加实验分析相结合的方法，利用到学校的一些地方加以检验。4.5研究步骤查阅资料→理论分析→射频磁控溅射制作薄膜→验证转化效率→结合瓷砖→实际检测→得出结论5.结论通过研究发现可以实现将压力转化为电能，但效率比较低，可以进一步研究通过zno和其他材料相结合的或者通过合理布局瓷砖设计从而提高转化以及利用效率。6.参考文献[1]马勇，王万录，吕建伟，等．ZnO薄膜的光致发光[J]．功能材料，2004，35(2)：139—144[2]李世涛，乔学亮，陈建国．透明导电薄膜的研究现状及应用[J]．激光与光电子学进展，2003，4o(7)：53-59．[3]葛春桥，薛亦渝，夏志林．AZO透明导电薄膜的制备技术光电特性及应用[J]．真空电子技术，2004，16(6)：51-54．[4]邓允棣．氧化锌掺杂的研究进展[J]．科协论坛，2007，7(2)：50-51[5]许小红，武海顺．压电薄膜的制备、结构与应用[M]．北京：科学出版社，2002．[6]贺洪波，范正修．C轴择优取向ZnO薄膜的溅射工艺与结构研究[J]．功能材料，2000，31(增刊)：77．78[7]包定华，张良莹，姚熹．薄膜压电性能的测量方法[J]．硅酸盐通报，1999，18(3)：18-22[8]马孜，吕百达．光学薄膜表面形貌的原子力显微镜观察[J]．电子显微学报，2000，19(5)：lO一13．[9]滕风恩，煜明，姜小龙，等．x射线结构分析与材料性能表征[M]．北京：科学出版社，1997：25-40[10]林鸿溢，张焱，丁世昌，等．纳米ZnO薄膜制备技术及其特性的研究[J]．北京理工大学学报，1995，15(2)：132—137．