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半导体物理SEMICONDUCTORPHYSICSS编写:刘诺独立制作:刘诺电子科技大学微电子与固体电子学院微电子科学与工程系1、杂质与杂质能级杂质:半导体中存在的与本体元素不同的其它元素。§2.1Si、Ge晶体中的杂质能级杂质出现在半导体中时,产生的附加势场使严格的周期性势场遭到破坏。第二篇半导体中的杂质和缺陷能级杂质能级位于禁带之中Ec杂质能级Ev2、施主能级:举例:Si中掺磷P(Si:P)导带电子电离施主P+EDED电离的结果:导带中的电子数增加了,这即是掺施主的意义所在。施主电离能:△ED=EC-ED△ED=EC-EDEgECEDEV施主杂质:束缚在杂质能级上的电子被激发到导带Ec成为导带电子,该杂质电离后成为正电中心(正离子)。这种杂质称为施主杂质。Si、Ge中Ⅴ族杂质的电离能△ED(eV)晶体杂质PAsSbSi0.0440.0490.039Ge0.01260.01270.00963、受主能级:举例:Si中掺硼B(Si:B)价带空穴电离受主B-受主能级EA电离的结果:价带中的空穴数增加了,这即是掺受主的意义所在。受主电离能:△EA=EA-EVEgEA△EAEVEC受主杂质:束缚在杂质能级上的空穴被激发到价带Ev成为价带空穴,该杂质电离后成为负电中心(负离子)。这种杂质称为受主杂质。Si、Ge中Ⅲ族杂质的电离能△EA(eV)晶体杂质BAlGaInSi0.0450.0570.0650.16Ge0.010.010.0110.011杂质半导体1、n型半导体:特征:a、施主杂质电离,导带中出现施主提供的电子;b、电子浓度n空穴浓度p。2、p型半导体:特征:a、受主杂质电离,价带中出现受主提供的空穴;b、空穴浓度p电子浓度n。GroupIIIAP-typedopants,groupIVbasicsemiconductormaterials,andgroupVAN-typedopants.上述杂质的特点:施主电离能△ED《Eg受主电离能△EA《Eg浅能级杂质4、浅能级杂质电离能的简单计算(1)氢原子基态电子的电离能)2(h8qmEEE2204010)1()r(E)r(r4qm4hn022022氢原子电子满足:故基态电子的电离能:(2)用类氢原子模型估算浅能级杂质的电离能浅能级杂质=杂质离子+束缚电子(空穴)正、负电荷所处介质:r0r4q)r(Ur02电势能估算结果与实际测量值有相同数量级Ge:△ED~0.0064eVSi:△ED~0.025eV)3(Emmh8qmE2r00*n22r204*nD施主电离能)4(Emmh8qmE2r00*p22r204*pA受主电离能杂质的补偿,既掺有施主又掺有受主补偿半导体(A)NDNA时n型半导体所以:有效的施主浓度ND*=ND-NAniEDEA因EA在ED之下,ED上的束缚电子首先填充EA上的空位,即施主与受主先相互“抵消”,剩余的束缚电子再电离到导带上。5、杂质的补偿作用(B)NAND时p型半导体因EA在ED之下,ED上的束缚电子首先填充EA上的空位,即施主与受主先相互“抵消”,剩余的束缚空穴再电离到价带上。EDEA所以:有效的受主浓度NA*=NA-NDni(C)NA≌ND时杂质的高度补偿本征激发的导带电子EcEDEAEv本征激发的价带空穴6、深能级杂质(1)浅能级杂质(2)深能级杂质△ED≮Eg△EA≮Eg△ED△EAEAEDEDEAEcEcEvEv△ED《Eg△EA《Eg例1:Au(Ⅰ族)在Ge中Au在Ge中共有五种可能的状态:(1)Au+;(2)Au0;(3)Au一;(4)Au二;(5)Au三。(1)Au+:Au0–eAu+△EDEgECEVED(2)Au0电中性态(3)Au一:Au0+eAu一△EAECEAEV(4)Au二:Au一+eAu二ECEA2EA1EV△EA2=△EA2(5)Au三:Au二+eAu三EC△EA3=EA3EA2EA1EV例2:Au(Ⅰ族)在Si中ECEAEDEV7、等电子陷阱(1)等电子杂质特征:a、与本征元素同族但不同原子序数例:GaP中掺入Ⅴ族的N或Bib、以替位形式存在于晶体中,基本上是电中性的。(2)等电子陷阱等电子杂质(如N)占据本征原子位置(如GaAsP中的P位置)后,即存在着由核心力引起的短程作用力,它们可以吸引一个导带电子(空穴)而变成负(正)离子,前者就是电子陷阱,后者就是空穴陷阱。NNP等电子陷阱举例1、N在GaAsP中:NP2、C在Si中:CSi3、O在ZnTe中:其存在形式可以是(1)替位式(2)复合体,如Zn-O8、束缚激子即等电子陷阱俘获一种符号的载流子后,又因带电中心的库仑作用又俘获另一种带电符号的载流子,这就是束缚激子。9、两性杂质举例:GaAs中掺Si(Ⅳ族)Ga:Ⅲ族As:Ⅴ族SiGa受主SiAs施主两性杂质:在化合物半导体中,某种杂在其中既可以作施主又可以作受,这种杂质称为两性杂质。两性杂质1、点缺陷:空位自间隙原子反结构缺陷各种复合体位错§2.2缺陷能级(1)Si中的点缺陷:以空位、间隙和复合体为主A、空位V0+eV-(受主)V0-eV+(施主)ED1〈ED2EcEAED1ED2EVB、间隙例1:Si:B空位EcEDEAEv例2、复合体“V”:空位。[O-V]复合体:EA=EC-0.17eV[As-V]复合体:EA=EC-0.4eV[P-V]复合体:EA=EC-0.47eV(2)GaAs中的点缺陷点缺陷分类:1、空位:VAs,VGa。2、间隙:IAs,IGa。3、反结构缺陷:BA,AB。A、空位ECEA1(VGa)=EV+0.01eVEA2(VAs)=EV+0.18eVEVB、反结构缺陷:AB或BA特征:出现在化合物半导体中例:GaAs中的反结构缺陷GaAs:受主AsGa:施主2、位错能级(主要指线缺陷)例:Si中的60O位错编写:刘诺独立制作:刘诺电子科技大学微电子与固体电子学院微电子科学与工程系半导体物理SEMICONDUCTORPHYSICS
本文标题:刘诺-半导体物理学-第二章
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