第四讲：衍射光栅及制作技术(2)

2.软X射线透射光栅880线/mm聚酰亚胺衬底的软X射线透射光栅在亚千电子伏特能区，衍射效率已接近理论值。SEM照片自支撑软X射线透射光栅加强筋1000线/mm软X射线针孔透射光栅25m50m加强筋2000线/mm软X射线透射光栅1.全息光刻技术2.紫外光刻技术3.离子束刻蚀技术4.离子束镀膜技术5.微电镀技术制作自支撑软X射线透射光栅涉及的工艺技术基片处理显影涂厚胶电镀镀金涂胶前烘全息曝光去胶前烘后烘显影粘支撑环剥离基片后烘镀导电层离子束刻蚀UV曝光离子束刻蚀去胶光栅制作加强筋制作3.干涉云纹试件光栅1200线/mm正交全息光栅用于光力学应力分布检测全息正交光栅的制作第一次全息曝光后，不显影，将基片旋转90后进行第二次曝光，两次曝光量相同。两次曝光后再显影。或者搭建正交光路，一次曝光。4.全息双频光栅大的周期结构是两光栅迭加后形成的“拍”全息双频光栅是利用全息光刻将两个不同周期的光栅制作在同一基片上，两光栅条纹迭加在一起并保持严格平行。双频光栅的作用导致衍射波阵面发生横向剪切，因而有重要应用。双频光栅是把两个周期不同的光栅做在同一基片上，光栅条纹严格平行。2211sinsindd/22121tgdddddddd双频光栅的拍频空间周期d'为光栅1和光栅2的光强分布分别为I1和I2迭加后总光强为:2021012cos12cos1dxIIdxIIdxdxII2cos2cos1202021012cos12cos1dxIIdxIIdxdxII2cos2cos120第二次曝光时转动M2或M3即可