电解抛光

（1）电抛过程中要注意整个流程的洁净，待抛前样品要无水状态，表面要平整；（2）电抛过程中样品不应离开液面，避免与空气接触，若不小心脱离液面，则必须从头开始；（3）电抛后的清洗也是重中之重，务必快速清洗，建议超声波清洗2道次以上，大部分金属都有活性，杜绝水洗（惰性金属、不锈钢类就无所谓），建议用挥发性好的有机溶剂清洗（乙醚、无水丙酮、无水甲醇、无水乙醇...）（4）最后是烘干，也是要果断的，最终表面不好也与烘干效果好坏有直接关系。（5）也不是要整个表面100%都是光洁平整的，只要有足够分析的面积就行，毕竟这种大多是微区分析，但是若是恰好感兴趣的区域被污染了，那就算倒霉的。一直从事Al,Mg,Cu等金属的研究,在实验过程中,发现Mg和Cu等软金属的抛光和腐蚀是一个大问题,要各方面都做到相当的熟练,才能抛出好的镜面,腐蚀出清晰的晶界和孪晶等结构.下面就本人的一点经验谈一下,望大家多交流一下.抛光布的选择:最好用长毛的软布,并且在抛光过程中,绒毛能够略微树直的那种.抛光膏的选择:本人曾经使用过三氧化二铝,三氧化二铬.金刚石抛光液和金刚石抛光膏等.感觉最好用的是金刚石抛光膏.可以分两种粒度的.抛光时,先将抛光布用清水打湿,抛光机的地面一定要平,要光滑,将抛光布紧贴抛光机紧固.在抛光机开动前,先将抛光膏涂在抛光布中央(感觉机器开动后,将抛光膏涂在式样上,容易将抛光膏打飞,起不到很好的作用)然后开动机器后,先喷水,将式样在涂有抛光膏的周围抛,并且略微沾一点抛光膏,记住在抛光过程中一定要不住的喷水,让式样的感觉是很滑的那种.并且一定要一个方向抛.不要将式样直接放在抛光膏中间,一方面太浪费,另一方面效果不见的好.要让式样漫漫的往抛光膏的中间过度.时间一般在2-3分钟,一定要刨除一个误区,并不是抛光的时间越长月好,要是在3分钟内没有抛好的话,就要重新用1200目砂纸打磨一下,因为抛的时间再长,划痕还是那样.将抛光的时候在自来水头冲洗,用干净的棉球轻轻的擦拭,然后半烘干,将式样在酒精中浸泡冲洗一会,全部烘干,放电镜观察.腐蚀的时候,首先要选定合适的腐蚀液,将腐蚀液倒入培养皿中,中间放一小块棉球,腐蚀的时候不要用式样直接接触腐蚀液体,而是在浸湿的棉球上轻轻的碰,时间不易过长,然后用清水冲洗干净,半烘干,再用酒精冲洗烘干,然后再到抛光机轻微抛一会,再轻微腐蚀,重复几次,越来越轻,就能腐蚀出清晰的界面.