涂覆离型膜

涂覆离型膜◆概述：涂覆离型膜是一种耐高温离型膜，可用于刚性、柔性电路板的生产。此离型膜通过专利工艺技术，并借助严格的质量控制，并经后段固化，具有耐高温、离型效果好、压合过程无污染等特点◆压合工艺优势涂覆离型膜提供了驱动层压部件到达密实层压所需的适度且围观施加的液压力，它可以消除空气进入保护层的底部及电路板之间。◆工艺条件随着涂覆离型膜全方位推广应用。除了发展光学涂覆离型膜集成电路涂覆离型膜、液晶显示膜、磁盘、光盘涂覆离型膜外，还大量生产刀具硬质膜、太阳能用涂覆离型膜、气敏元件涂覆离型膜、塑料金属化制品、建筑玻璃膜制品、各种装饰瑞昌星离型膜和卷镀涂覆离型膜产品等。涂覆离型膜之所以成为研究的热点，并且具有广阔的应用前景，是与涂覆离型膜材料的以下特点密切相关许多情况下，材料功能的发挥和作用发生在材料表面。如化学催化、光学反射、场致发射、热电子逸出等物理化学现象。使用功能涂覆离型膜材料比使用体块功能材料不仅保护资源，而且降低成本。涂覆离型膜材料往往具有一些其块体材料所不具备的性能。这是因为涂覆离型膜材料容易形成细晶、非晶状态，涂覆离型膜材料容易处于亚稳态，涂覆离型膜往往偏离化学计量比，特殊的材料表面能态等。镀膜方法有湿法和干法。湿法包括电镀和化学镀。干法包括化学气相沉积法(CVD)和物理气相沉积法(PVD)。涂覆离型膜的制备常采用PVD法和CVD法。PVD法是在真空或超真空下将金属加热气化，通过气态原子之间或与作保护气的惰性原子之间碰撞并被捕集于基材上来制备涂覆离型膜。CVD法是利用气相物质的热分解、热合成或化学传输等在基底材料上生成固态沉积的膜层◆性能特点：·用于刚性、挠性线路板、HDI板、FPC板、软硬结合板等的离型材·颜色：乳白、哑光、透明等·离型面有双面或单面离型膜，环保无污染·耐高温200±5°C·表面光洁平滑，成型性能卓越、易剥离、易操作·厚度有：25UM、27UM、30UM、32UM、36UM、50UM等·RCX-RF离型膜不释放气体，不存在板屑、无层间胶合影响，无真空系统污染、不影响电路板表面质量·对环境无害：不含破坏臭氧层的物质、无卤元素，符合最新欧盟ROHS要求