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当前位置:首页 > 电子/通信 > 综合/其它 > 模拟电子电路第4章答案
4.1简述耗尽型和增强型MOS场效应管结构的区别;对于适当的电压偏置(VDS0V,VGSVT),画出P沟道增强型MOS场效应管,简要说明沟道、电流方向和产生的耗尽区,并简述工作原理。解:耗尽型场效应管在制造过程中预先在衬底的顶部形成了一个沟道,连通了源区和漏区,也就是说,耗尽型场效应管不用外加电压产生沟道。而增强型场效应管需要外加电压VGS产生沟道。随着VSG逐渐增大,栅极下面的衬底表面会积聚越来越多的空穴,当空穴数量达到一定时,栅极下面的衬底表面空穴浓度会超过电子浓度,从而形成了一个“新的P型区”,它连接源区和漏区。如果此时在源极和漏极之间加上一个负电压DSV,那么空穴就会沿着新的P型区定向地从源区向漏区移动,从而形成电流,把该电流称为漏极电流,记为Di。当SGv一定,而SDv持续增大时,则相应的DGv减小,近漏极端的沟道深度进一步减小,直至DGtvV,沟道预夹断,进入饱和区。电流Di不再随SDv的变化而变化,而是一个恒定值。4.2考虑一个N沟道MOSFET,其nk=50μA/V2,Vt=1V,以及W/L=10。求下列情况下的漏极电流:(1)VGS=5V且VDS=1V;(2)VGS=2V且VDS=1.2V;(3)VGS=0.5V且VDS=0.2V;(4)VGS=VDS=5V。(1)根据条件GStvV…,DSGStvvV,该场效应管工作在变阻区。2DnGStDSDS12WikvVvvL=1.75mA(2)根据条件GStvV…,DSGStvvV,该场效应管工作在饱和区。2DnGSt12WikvVL=0.25mA(3)根据条件GStvV,该场效应管工作在截止区,D0i(4)根据条件GStvV…,DSGStvvV,该场效应管工作在饱和区2DnGSt12WikvVL=4mA4.3由实验测得两种场效应管具有如图题4.1所示的输出特性曲线,试判断它们的类型,并确定夹断电压或开启电压值。图题4.1图(a)P沟道耗尽型图(b)P沟道增强型4.4一个NMOS晶体管有Vt=1V。当VGS=2V时,求得电阻rDS为1k。为了使rDS=500,则VGS为多少?当晶体管的W为原W的二分之一时,求其相应的电阻值。解:由题目可知,该晶体管工作在变阻区,则有DnGStDSWikvVvLnGSt1DSDSDvriWkvVL当1DSrk时,代入上式可得2n1WkmAVL则1DSrk时,GStGSGSt210.5231kvVVvVmAvVV当晶体管的W为原W的二分之一时,当VGS=2V时,2DSrk当晶体管的W为原W的二分之一时,当VGS=3V时,1DSrk4.5(1)画出P沟道结型场效应管的基本结构。(2)漏极和源极之间加上适当的偏置,画出VGS=0V时的耗尽区,并简述工作原理。解:(1)(2)p型GDSNN耗尽层4.6用欧姆表的两测试棒分别连接JFET的漏极和源极,测得阻值为R1,然后将红棒(接负电压)同时与栅极相连,发现欧姆表上阻值仍近似为R1,再将黑棒(接正电压)同时与栅极相连,得欧姆表上阻值为R2,且R2R1,试确定该场效应管为N沟道还是P沟道。解:GS0v时,低阻抗,GS0v时,高阻抗,即GS0v时导通,所以该管为P沟道JFET。4.7在图题4.2所示电路中,晶体管VT1和VT2有Vt=1V,工艺互导参数nk=100μA/V2。假定=0,求下列情况下V1、V2和V3的值:(1)(W/L)1=(W/L)2=20;(2)(W/L)1=1.5(W/L)2=20。图题4.2(1)解:因为(W/L)1=(W/L)2=20;电路左右完全对称,则D12I50DIA则有1215204DVVVIkV4GDtVVV,可得该电路两管工作在饱和区。则有:2DnGSt11.222GSWIkVVVVL31.22sVVV(2)解:因为(W/L)1=1.5(W/L)2=20,121.5DDII,同时12100DDIIA可求得:1260,40DDIAIA则有115203.8DVVIkV,225204.2DVVIkV13.8GDtVVV,24.2GDtVVV可得该电路两管工作在饱和区。则有:2D1nGSt111.2452GSWIkVVVVL31.245sVVV4.8场效应管放大器如图题4.3所示。nk(W/L)=0.5mA/V2,t2VV(1)计算静态工作点Q;(2)求Av、Avs、Ri和Ro。2图题4.3解:(1)0GV,18182GSSDSDVVIRI考虑到放大器应用中,场效应管应工作在饱和区,则有:2DnGSt12WIkVVL代入上式可得:2DD17640II解得D111.35mAI,D25.65mAI,当D111.35mAI时场效应管截止。因此,DD25.65mAII,GS1811.36.7VV,D1825.656.7VV,DS6.7(6.7)13.4VV(2)DmOV211.32.44.7IgmsV,忽略厄尔利效应ovmDLi//4.36vAgRRviiGi100vRRkiivsvisig3.96RAARRoD2RRk4.9图题4.4所示电路中FET的t1VV,静态时IDQ=0.64mA,nk(W/L)=0.5mA/V2求:(1)源极电阻R应选多大?(2)电压放大倍数Av、输入电阻Ri、输出电阻Ro;(3)若C3虚焊开路,则Av、Ri、Ro为多少?图题4.4解:(1)G100186V200100V2DnGSt12.62GSWIkVVVVL2.4VSGGSVVV3.75SDQVRkI(2)DmOV20.8IgmsV,忽略厄尔利效应ovmDLi//4.8vAgRRviiGi(100200)10vRRkkMioD10RRk(3)mDLovim//1gRRvAvgR=1.2iiGi(100200)10vRRkkMioD10RRk4.10共源放大电路如图题4.5所示,已知MOSFET的μnCoxW/2L=0.25mA/V2,t2VV,o80kr,各电容对信号可视为短路,试求:(1)静态IDQ、VGSQ和VDSQ;(2)Av、Ri和Ro。2Vss(-30V)图题4.5解:(1)0GV,30302GSSDSDVVIRI考虑到放大器应用中,场效应管应工作在饱和区,则有:2DnGSt12WIkVVL代入上式可得:2DD291960II解得D118.25mAI,D210.75mAI,当D118.25mAI时场效应管截止。因此,DD210.75mAII,GS302*10.758.5VV,D30210.758.5VV,DS8.5(8.5)17VV(2)DmOV211.33.34.7IgmsV,忽略厄尔利效应mDLovim//0.871gRRvAvgRiiGi1vRRMioD2RRk4.11对于图题4.6所示的固定偏置电路:(1)用数学方法确定IDQ和VGSQ;(2)求VS、VD、VG的值。Vt图题4.6解:(1)3VGSV假设该JFET工作在饱和区,则有2GSDDSSt11.1DVIIImAV(2)0VSV,162.213.58DDVIV,3VGV4.12对于图题4.7所示的分压偏置电路,VD=9V,求:(1)ID;(2)VS和VDS;(3)VG和VGS。Vt图题4.7G110202.16V110910V,GSGSD2.161.1VVVI2GSDDSSt13.318.01(DVIIImAmAV或舍去)则GSGSD2.161.1VVVI=-1.48V,则D1.13.64SVIVDSS(202.2)3.649.07DDVVVIV4.13如图题4.8所示,求该放大器电路的小信号电压增益、输入电阻和最大允许输入信号。该晶体管有Vt=1.5V,nk(W/L)=0.25mA/V2,VA=50A。假定耦合电容足够大使得在所关注的信号频率上相当于短路。图题4.8iRsigvOviigsvgsmvgLRDRor解:等效电路如图所示GSD1510DSDVVVI2DnGSt11.061.72(2DWIkVVImAmAL或舍去)则GS4.4DVVVDmOV20.725IgmsV因10GRM,其上的交流电流可以忽略,则ovmDLi////3.3ovAgrRRv为了计算输入电阻,先考虑输入电流(此处也可用密勒定理),14.3oiioiiGGiGvvvvviRRvRiii2.334.3GRvRMi最大允许输入信号需根据场效应管工作在饱和区条件来确定,即DSGStvvV,即min)(max)DSGStvvV(0.34DSviGSitiVAvVvVvV4.14考虑图题4.9所示的FET放大器,其中,Vt=2V,nk(W/L)=1mA/V2,VGS=4V,VDD=10V,以及RD=3.6k。(1)求直流分量ID和VD;(2)计算偏置点处的gm值;(3)计算电压增益值Av;(4)如果该MOSFET有=0.01V−1,求偏置点处的ro以及计算源电压增益Avs。图题4.9解:(1)2DnGSt122DWIkVVImAL则2.8DDDDDVVIRV(2)DmOV22IgmsV(3)ovmDi7.2vAgRv(4)oD150rkIivsvisig//7.2mDoRAAgRrRR4.15图题4.10所示为分压式偏置电路,该晶体管有Vt=1V,nk(W/L)=2mA/V2。(1)求ID、VGS;(2)如果VA=100V,求gm和ro;(3)假设对于信号频率所有的电容相当于短路,画出该放大器完整的小信号等效电路;(4)求Ri、Ro、vo/vgs以及vo/vsig。图题4.10解:(1)假设该电路工作在饱和区,则有G5155V105V,GSGSD53VVVI2DnGSt112DWIkVVImAL,则GSGSD532VVVIV(2)DmOV22IgmsV,oD100AVrkI(3)iRsigvOviviioRgsvgsmvg0gi10ksigRor10M5M7.5k(4)iiG1G2Gi//3.33vRRRRMisigLtooD0t//100//7.57vRvRrRkkki∞oovmoDLi////8.2gsvvAgrRRvvGivvmoDLisigGsig////2.03osigvRRGAgrRRvRRRR4.16设计图题4.11所示P沟道EMOSFET电路中的RS、RD。要求器件工作在饱和区,且ID=0.5mA,VDS=−1.5V,G2VV。已知μpCoxW/(2L)=0.5mA/V2,Vt=−1V,设=0。(5)DDVVSRDR2GR1GRov图题4.11解:2DnGSt122GSWIkVVVVLSG4GSVVVV5DSSDDDDVVVRkII2DDSSDVVRkI4.17在图题4.12电路中,NMOS晶体管有|Vt|=0.9V,VA=50A,nk(W/L)=0.25mA/V2并且工作在VD=2V。电压增益vo/vi为多少?假设电流源内阻为50k,求iR、oR。图题4.12解:iRsigvO
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