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1武汉光电国家实验室分数光电子微纳制造工艺平台2016年试卷名称:超净间基本规范及安全培训考试时间:2016年单位:机械科学与工程学院导师姓名黄永安学生姓名尹锋一.单选择题(60分)1.化学试剂溅到身上,立即采用(喷淋头),用水冲洗15分钟。冲洗后,不要擦拭皮肤,必要时前往医院治疗。2.穿着超净服时,(用脚套包住裤腿)。3.超净间内使用(圆珠笔)。4.从(风淋室)进入超净间。5对超净间内各处的门,(轻轻)关门。6.穿着(洁净鞋或者鞋套)进入更衣间。7.清洗间清洗槽的排气风扇因故障停止,(继续)清洗。8.冲洗容器的稀释液倒入(排水槽)。9.手套破损,(立即更换)。10.酸、碱及有机溶剂容器的盖子,使用后(立即锁紧盖子)。11.超声清洗及其它清洗中,通风柜的门(处于半关闭位置)。12.废液待温度降至室温时,倒入(收集桶)。13.稀释酸液时,(将酸慢慢倒入水中)。14.化学试剂不小心溅到脸上或眼睛里,立即采用(洗眼池),用大量水冲洗15分钟以上。联系平台领导及工程师协助立即前往医院就医,同时通知导师。15.进清洗间,(戴)防护眼镜或面罩、耐酸碱手套。16.发生火警时,从(安全门)跑出超净间,在A区北面广场集合,便于清点人2数。17.在工艺设备发生火灾时,如果火苗较小且没有过多烟雾时,同学们可使用(CO2灭火器)灭火。18.密闭房间内,氮气泄漏有(窒息)威胁。19.光刻工艺在(黄色光)条件下进行。20.(取得)操作许可证,才能独立操作设备21.超净间级别由低到高依次为:(10000级、1000级、100级)。22.进入超净间的个人动作顺序为:2)脱一次鞋→穿上净化服→戴上净化帽→洗手→戴上口罩手套→进风淋室→入室;23.要带入超净间的仪器、工具、硅片和掩模盒,请在(更衣室)进行清洁。24.所有的瓶罐,不论有无冲洗过,若没有贴上危险物质标示贴,只能由(工作人员)用水清洗。25.(用镊子)拿硅片。26.(N2O)为低毒类气体,发生泄漏时,在安全区域佩戴简易防护面罩手套,然后前往特气室关闭钢瓶阀门及供气面板输出阀门。27.(H2)为易燃易爆气体,为防止火星,操作时禁止使用手机,禁止穿化纤服装,禁止穿铁掌皮鞋。同学们不得自行操作此类气体。28.(PH3)为剧毒性气体,操作时需要戴放毒面具。同学们不得自行操作此类气体。29.光刻工艺对环境洁净度、温湿度要求高,在(百级)间进行。30.金相显微镜、光刻机使用完毕后,在后续(没有人)使用情况下,一定要关3闭电源,延长光源使用时间。二.判断题(40分)1.手接触手套的外表面。(错)2.在千级间内喝水。(错)3.一个人在超净间内实验。(错)4.在超净间内给磁控溅射机靶材进行打磨工作。(错)5.穿皮鞋在更衣间或走廊间走动。(错)6.在百级间内缓慢走动。(对)7.千级间与技术夹道之间的门总是开着。(错)8.垃圾放入字纸篓或垃圾桶,并经常把垃圾袋清除到超净间外。(对)9.在超净间内补妆。(错)10.化学清洗槽的抽气装置出故障了还继续使用。(错)11.戴着超净间内使用过的橡胶手套洗碗。(错)12.废液入桶,有机和无机的废液倒入一个桶中。(错)13.发生火警时,担心弄脏超净服,所以先脱掉超净服再逃生。(错)14.火势很大,或烟雾过多时,同学们警告附近的人员立即逃生,不管其它任何工作。灭火工作求助119专业消防员。(对)15.未经平台主任或设备工程师审定,就实施自己的新工艺程序。(错)16.碰到设备故障时,自己尝试处理。(错)17.实验完成时,不通知工程师或助管,自行离开。(错)18.化学药品用毕后,在空瓶外贴上安全标示贴,清洗完的空瓶贴上“已清洗”。4(对)19酸类调和后,立即盖紧存放。(错)20.私自带剧毒、易爆炸类物品进入超净间。(错)21.没通过安全培训,没有超净间通行证想要进入超净间工作。(错)22.无设备操作证书使用设备。(错)23.浓硫酸不小心溅到脸上,用大量水冲洗并用毛巾擦脸。(错)24.在超净且门关闭的房间内,没有异味,但是感到憋气且脸发红,可能有氮气泄露。应立即离开房间,通知工程师。(对)25.非设备管理人员未经允许,不得进入技术夹道动用工艺气瓶及其它装置。(对)26.书包带入超净间。(错)27.看硅片表面情况时,不戴口罩,鼻子对着硅片出气。(错)28.不戴手套做工艺,用手拿基片,用手开闭设备腔体盖子。(错)29.稀释浓硫酸,把水沿烧杯壁倒入浓硫酸中。(错)30.做工艺时,用戴着的手套外表面在皮肤上挠痒。(错)31.离开时,自己的物品放入租用的整理箱。(对)32.超净间同一房间内人数应维持二人及以上。(对)33.工艺测试设备每天要做清洁,整个超净间每周要做大扫除,各个团队负责自己的包干区卫生。(对)34.微纳平台做实验实行预约登记制度,应提前一天预约,要做实验的每位同学都有一张预约IC卡。毕业时交给导师传给下一届同学使用。(对)35.为了保持光刻间洁净度,应保持光刻间的门经常处于关闭状态。(对)36.遗留在超净间内的化学药瓶不加标示。(错)537.酸碱液混合倾倒。(错)38.开展光刻工艺时必须戴手套和口罩。(对)39.光刻胶放置在研究生办公室。(错)40.未使用过的药品及材料带入超净间必须经微纳平台领导审核批准。剧毒、易爆炸类物品,原则上严禁带入超净间。(对)6微纳平台实验计费确认说明光电子微纳制造工艺平台:本人系机械科学与工程学院(学院)尹锋(姓名),导师是黄永安。即日起至2019-06-30(日期)在光电子微纳制造工艺平台做实验,申请使用黄永安老师的工艺测试费,如有变更,将另行说明。此期间,已预约的实验因故不能做,需要在规定时间内取消,否则会按预约时间段收费。其中:因平台方面原因(如设备故障、前期工艺没做好导致后面实验不能进行等)、不可抗力的自然因素等使得实验不能进行将不予扣费。特此说明!申请人:年月日导师意见(申请人为学生须有导师签字):经费负责人:日期:
本文标题:光电子微纳制造工艺平台2016年试卷(上半年)及导师确认说明-1
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