《薄膜光学》期末试卷(A)

第1页共5页……………………………………………装………………………………订…………………………线………………………………………………………此处不能书写此处不能书写此处不能书写此处不能书写此处不能书写此处不能书写此处不能书写北京理工大学珠海学院2010～2011学年第一学期《薄膜光学》期末试卷（A）诚信声明考场是严肃的，作弊是可耻的，对作弊人的处分是严厉的。我承诺遵守考场纪律，不存在抄袭及其它违纪行为。考生（承诺人）签字：专业：班级：学号：适用年级专业：2007级测控技术与仪器专业试卷说明：开卷，考试时间90分钟题号一二三四总分得分一、填空题（每空1分，共20分）【得分：】1．光学导纳是指。2．入射介质折射率n0=1，玻璃折射率n1=1.5，当一束光垂直入射时，在玻璃单一界面上产生反射率R=。（玻璃无吸收）3．等效界面是指与之间的界面。4．已知入射介质折射率为n0，薄膜材料折射率为n1，基底的折射率为ns，对于单层减反射膜折射率关系要满足，对于单层高反射膜折射率关系要满足。5．宽带减反射膜的“母膜系”结构为。6．多层高反射膜堆的膜系结构为，高反射带的宽度与有关。7．最简单也是最常用的构成截止滤光片的周期性对称膜系结构为。8．真空镀膜机主要由三部分组成，它们分别是、和。9．气体分子的平均自由程是指。10．油扩散泵的“油扩散”是指。11．离子源利用产生等离子体，并能从等离子体中引出。12．基片的清洗方法，对于新抛光的基片表面，可用脱脂纱布蘸混合液进行擦拭。13．光电极值法测量薄膜厚度，当控制波长λ=600nm时，T或R走了两个极值，则此时膜层光学厚度为，在波长λ=600nm处，沉积该厚度的膜层后，其透射率T将（增大、减小、不变）。二、选择题（每题2分，共20分）【得分：】第2页共5页1．光学厚度相差为的整数倍的同一材料的单层介质膜，对同一波长有相同的反射率（）。A．λ/4B．λ/3C．λ/2D．3λ/42．下列关于金属高反射膜的特性说法错误的是（）。A．高反射波段非常宽阔，覆盖几乎全部光频范围B．各种金属膜层与基底的附着力有较大差距C．金属膜层化学稳定性差，易被环境气体侵蚀D．膜层硬、不易划伤3．下列真空泵在使用时可以直接向大气中排气的是（）。A．机械泵B．低温泵C．油扩散泵D．涡轮分子泵4．下列可以用来检测低真空的是（）。A．热电偶真空计B．热阴极电离真空计C．冷阴极电离真空计D．三者都可以5．下列说法错误的是（）。A．工作介质是高纯真空油B．必须在有水冷条件下使用C．不能直接抽大气D．可以向大气中直接排气6．下列关于电子枪说法错误的是（）。A．可蒸发高熔点材料B．升温快，化合物分解小C．可重复再现块状材料性能D．膜层填充密度高，机械性能好7．下列关于热电偶真空计说法错误的是（）。A．测量的压强是北侧容器的真实压强B．受外界环境影响不大C．突遇气压急剧升高，也不会烧坏D．能够连续测量，并能远距离读数8．下列关于真空度说法错误的是（）。A．真空度低，气压高B．真空是指没有残余的气体C．真空度低增加膜料分子与气体分子的碰撞几率D．真空度低导致膜层疏松，机械性能差9．光电极值法的过正控制是采用的监控波长要理论上的监控波长（）。A．大于B．小于C．等于D．以上都可以10．镀膜设备检查漏气时，会用到（）。A．乙醚B．乙醇C．乙醇和乙醚混合液D．丙酮三、判断（共20分，每题2分）【得分：】1．对于高反射膜系采用周期性多层膜堆G︳H(LH)S︱A，其反射率随着膜层数第3页共5页……………………………………………装………………………………订…………………………线………………………………………………………此处不能书写此处不能书写此处不能书写此处不能书写此处不能书写此处不能书写此处不能书写的增加而增加，因此，事实上，膜层数越多越好。（）2．对于高反射膜系（LH）S，反射带的波数宽度相等，波长宽度不相等（）3．对于膜系结构（22HLH）S比较适合做短波通截止滤光片，而（22LHL）S比较适合做短波通截止滤光片。（）4．石英晶体膜厚仪测量薄膜的光学厚度，其灵敏度比光电膜厚仪高。（）5．单独使用机械泵只能获得低真空。（）6．油扩散泵多级喷嘴的作用是形成“接力”向下的运动动能，以阻止“反扩散”。（）7．电偶真空规可以测量高真空，电离真空规可以测量低真空。（）8．离子辅助镀能够明显提高膜层的填充密度，因此，离子辅助技术已经成为光学薄膜制造工艺中不可缺少的组成部分。（）9．当膜层与基底温差太大时，冷却后收缩变形不一致，产生内应力，会造成膜层脱落会龟裂。（）10．膜层沉积速率提高，可以形成颗粒细而致密的膜层，牢固度增加，因此，沉积速率越高越好。（）四、计算题（共40分，1,2,3每题8分，4题16分）【得分：】1．物理汽相沉积为什么需要在真空环境中进行？制造光学薄膜的真空镀膜机需要的真空度是多少？第4页共5页2．离子辅助镀技术是在热蒸发镀膜技术中增设了离子源，采用离子辅助对于膜层生长及性能有什么作用？3．光电极值法和石英晶振法测量膜层厚度原理，并对两种方法进行比较。第5页共5页……………………………………………装………………………………订…………………………线………………………………………………………此处不能书写此处不能书写此处不能书写此处不能书写此处不能书写此处不能书写此处不能书写4．详细叙述真空镀制光学薄膜的基本工艺过程。