第六章 工艺仿真模型的设置

第六章工艺仿真模型的设置§6-1系统模型的类型及参数分类§6-1-1元素模型元素模型允许用户改变那些元素所特有的参数。有四种元素模型支类型，对应于能允许的硼、磷、锑、和砷四种杂质元素。MODELCARD的参数应用的元素由名字参数赋值说明，元素名与其相对应的模型分类名如下：硼BOBON：MBO1，MBO2，MBO3，MBO4，MBO5。磷PHOSPHORUS：MPH1，MPH2，MPH3，MPH4，MPH5。锑ANTIMONY：MSB1，MSB2，MSB3，MSB4，MSB5。砷ARSENIC：MAS1，MAS2，MAS3，MAS4，MAS5。能够通过元素模型卡修改的系数被列表在下面。模型卡的参数用这种方法来计算。§6-1-2氧化模型氧化模型可说明以下内容：（1）说明正在进行的氧化步骤所处的的周围气氛类型。（2）提供该种环境气氛下的氧化物生长率。氧化模型的名字允许区分四种周围气氛，周围气氛的类型以及相应的模型名字列表如下：水汽STEAM：STM1；STM2；STM3；STM4；STM5湿氧WETO2：WET1；WET2；WET3；WET4；WET5干氧DRYO2：DRY1；DRY2；DRY3；DRY4；DRY5氮气NITROGEN：NIT1；NIT2；NIT3；NIT4；NIT5修改模型参数，替换系统数据库设置的补缺值，所变更的氧化模型参数将影响线性条件下及抛物线条件下的氧化生长速率。§6-1-3外延模型及特殊用途模型外延模型外延模型用来修饰用于外延生长子程序中所用的杂质流量参数。有五个外延模型从1-5：EPI1，EPI2，EPI3，EPI4，EPI5。外延模型的参数表描述在下面：MODELNAME=M，[FAUT=N]，[FRAC=N]FAUT：为自动掺杂的蒸发系数的乘数。FRAC：从再吸收界面释放出的掺杂剂的分数。特殊用途模型之所以称为特殊用途模型，是因为它们的参数不适合任何其它模型。而且必须不是同其它模型有相同意义的模型参数。五种特殊模型以及它们的参数列表描述如下：特殊用途模型：SPM1；SPM2；SPM3；SPM4；SPM5MODELNAME=M，[NIEF=N]，[NIEA=N]，*[GATE=G]，[QSSQ=N]，[CBLK=N]NIEF：用于计算作为温度函数的有效本征载流子浓度Ni的指数前置常数（即Ni=NIEF*EXP（-NIEA/KT）*（T**1.5），这里，K是波尔兹曼常数，T是K度。）。补缺值=2.09717E16（ATOMS/CM3）。NIEA：用于计算有效本征载流子浓度的上述表示式中的激活能。补缺值=0.561839（EV）GATE：用于计算阈值电压的栅极材料，有三种类型可以说明。铝，P+和N+，它们的符号（G）分别是AL，+和-。补缺值=AL。QSSQ：用于计算阈值电压的硅/氧化物界面处表面态的数目，单位用STATES/CM2。自动补缺值=0。CBLK：表示体接触类型。CBLK=0在衬底处接触（最后的硅点）。CBLK=1在表面处接触（第一个硅点）。CBLK=N体接触在任意浓度，正为P型，负为N型。§6-2工艺模拟系统所设置的补缺参数下面，是SUPREM-2工艺仿真系统在各种模型中所使用的参数补缺值。这些参数中有不少同晶向有关。晶向分类BORON（硼）PHOSPHORUS（磷）ANTIMONY（锑）ARSENIC（砷）与分凝系数密切相关的参数（SEGREGATIONCOEFFICIENT）SEG0(111)1126.010.010.010.0SEG0(100)2208.010.010.010.0SEGE(111)0.910.00.00.0SEGE(100)0.960.00.00.0