ALD设备简介

无锡松煜科技有限公司2017.8.30技术指标成膜种类：Al2O3设备温度：250℃成膜厚度：5-10nm可控产能：6000-7200片/h气路系统气密性：1×10-7pa.m3/s成膜均匀性：≤3%真空度：10Pa生长速率：0.012nm/s保养周期：6个月保养一次Uptime：98%以上TMA耗量：10g/h氮气需求：优于99.9999%技术特点：支持多种制程，perc，双面电池。。。。。。设备占地空间小；维修方便；保养周期长，长达半年；设备成膜质量好，致密切均匀度良好，在2-10nm都可满足均匀性的需求，也可以做的更厚，根据需求进行工艺调整，调整方便，只需更改时间即可；设备产能高，一台设备可完成200MW的产能；设备稳定性高，尽可能的减少了运动部件，使设备的运行更加稳定可靠；设备对于干泵采取了必要措施的保护，使泵的维护周期更长。PERC电池工艺路线工艺原理工艺为85个循环10nm，可根据要求成膜的厚度进行控制，控制的模式为控制循环数量。设备简介设备简介设备自动化：设备占地面积小，产能高，性价比高！设备外形尺寸：气路原理TMA用量少，主要依靠饱和蒸汽压进行气体输送，降低了设备TMA源量的消耗！！！自动化夹具：装卸片的设计充分考虑表面摩擦损伤！！！维护保养设备维护简单，半年维护一次！！！Coo大幅降低，uptime大幅上升！！！设备成膜均匀：设备气流方向原理,良好的气流设计是成膜的关键，我公司生产的ALD设备膜厚可做到2nm以下依然保持良好的均匀性，5nm以上均匀性可达到3%以内；同时对源的量的用量得到了有效的控制，基本可控制在10g/h以内，设备的COO得到有效控制！推拉舟工艺过程中硅片与舟都不会运动，所以设备更加稳定可靠，故障率低，配合超长时间的保养周期，使设备的利用率达到98%!!!真空系统图：谢谢大家！！！