半导体行业超纯水制造技术

Ultra-purewatermanufacturingtechnologyofthesemiconductorindustryXuDehong（ResearchInstituteNo.46，ChinaElectronicsTechnologyGroupCorp.，Tianjin300220，China）（，300220）［］，。。，。［］；；［］TU991.41［］B［］1005-829X（2010）05-0090-03Abstract：Ultra-purewatertechnologyappliedtothesemiconductorindustrybecomesmoreextensive，andthere-quirementsofultra-purewateraregettinghigherandhigherinsemiconductormanufacturingcompanies.Theultra-purewatertreatmentprocessandthecontrastsofthedifferentprocessequipmentaremadeindetail.Atthesametime，theenergy-savingandemission-reductionmeasuresofultra-purewaterareintroducedindetail，aswell.Keywords：semiconductor；ultra-purewater；energy-savingandemissionreduction。，，，。，。，〔1〕，，30m3/h。14，、RO、。，“+”，，〔2〕。1.1，RO。、，SDI≤4；；；LSI，。，“+”。“+”，：（1）SDI，5，；SDI（≤1），。（2），“+”，。（3），。（4），，，，30520105IndustrialWaterTreatmentVol.30No.5May，201090——2010－05，30（5）。1.2，，。，99%、，98%，、TOCCO2。，，，，，。SBS、MDC，；，。1.3，15MΩ·cm。，EDICEDI，1。CEDI，CEDI，CEDICEDI，，。1.4，，〔3〕。。250%，，。，、。。3，、ROCEDI。。2.1，，，（），，。2.2RORO75%，，，，4。，RO，、，RO，，RO，。2.3CEDI，CEDIRO（1）。RO，CEDI，。，，RO，RORO。CEDI24h，CEDI，，。，，RORO，RO，RO，RORO，，RO：RO1CEDIEDICEDIEDI，；；20~100μS/cm，；；200~400μS/cm，2%，，RO，，；，；：91——2010－05，30（5）［］（1982—），2005，。：13820616854，E-mail：[e-mail]。［］2010-01-06（），RO；RO，RO；，RO；，RO。，，，243m3，113m3，130m3。3，，。，、，，，。，，，。［］［1］，.“”［J］.，2008（9）：27－33.［2］.［Z］.［3］.［Z］.··———，，，.CN101368271（），，1--2--5-［1’-（1’，2’，4’-）-］-1H-1，3，4-、1--2-{5-［1’，2’，3’，5’－－］-1，3，4-}。，、、。，。———，，.CN101412565，。、、、、、。，、、，、、，，。，0.05~0.07mm/a，97.5%~99％。，。（）!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!、、，，、，：（、、）；；；。1，4000；2，2000；3，1000。，，《》，《》。：2010830。：[e-mail]，“”，《》。··92——