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学习目标描述空间电荷区是怎样形成的。画出平衡状态下pn结的能带图。推导出pn结接触电势差的表达式。了解pn结内载流子分布特点。理解外加偏压下非平衡pn结的特性。前几章我们讨论了半导体及其载流子遵循的基本物理规律,如半导体结构和基本性质、半导体的能带结构和载流子的分布规律、载流子的输运、运动规律。后面几章将讨论在半导体的基本器件结构中,载流子的输运和运动规律。据统计:半导体器件主要有67种,还有110个相关变种所有这些器件都是由少数的基本模块构成:pn结金属-半导体接触MOS结构异质结超晶格PN结是P型和N型半导体接触形成的基本结构实际的pn结是利用掺杂的补偿效应形成的◦合金法◦扩散法◦注入法在交界面处,杂质浓度由NA突变为ND,称为突变结;若杂质分布可用x=xj处的切线近似表示,称为线性缓变结。实际的突变结,两边的杂质浓度相差很多,如n区施主杂质浓度为1016cm-3,而p区受主浓度为1019cm-3.通常称这种结为单边突变结(这里是p+n结)。突变结:线性缓变结:高表面浓度,浅结(1um)低表面浓度,深结(3um)或外延的PN结𝑥𝑥𝑗,𝑁𝑥=𝑁𝐴𝑥𝑥𝑗,𝑁𝑥=𝑁𝐷𝑁𝐷−𝑁𝐴=𝛼𝑗(𝑥−𝑥𝑗)由于pn结两侧多子的扩散,结附近感生出内建电场,通常把pn结附近的电离施主和电离受主所带电荷称为空间电荷,空间电荷所在的区域称为空间电荷区。内建电场作用在载流子上的电场力与载流子的扩散力平衡时,结达到平衡态。此时载流子的漂移与扩散互相抵消。空间电荷区=耗尽区(没有可自由移动的净电荷,高阻区)PN结的形成达到平衡态后,空间电荷区宽度保持不变,内建电场保持不变,流过pn结的净电流为零。称这种情况为平衡状态下的pn结(平衡pn结,零偏态)PN结的能带图形成pn结时,由于费米能级不一致,将发生n区电子流向p区,p区空穴流向n区。随着电子和空穴的运动,pn结两侧能带发生相对位移,其中p区能带上移,n区能带下移。费米能级随能带移动,直至费米能级处处相等时,能带停止相对移动,pn结达到平衡状态。空间电荷区电势为V(x),电子电势能为-qV(x),Ei的变化与电势能变化一致。亲和势功函数qVDPN结的费米能级达到平衡时,费米能级达到一致耗尽区内,漂移电流=扩散电流𝐽𝑛=𝑞𝑛0𝜇𝑛E+𝑞𝐷𝑛d𝑛0d𝑥=0由代入原式得𝐽𝑛=𝑞𝑛0𝜇𝑛E−𝑞𝑛0𝐷𝑛𝑞E𝑘𝑇+𝑞𝑛0𝐷𝑛𝑘𝑇d𝐸𝐹d𝑥=0d𝐸𝐹d𝑥=0电子从势能低的n区向势能高的p区运动,需克服势垒,因此空间电荷区也成为势垒区d𝐸id𝑥=−𝑞d𝑉𝑥d𝑥=𝑞E(6.1)接触电势差平衡pn结空间电荷区两端的电势差VD称为pn结的接触(内建)电势差。相应的电子电势能之差即能带的弯曲量qVD称为势垒高度。势垒高度与n区和p区费米能级之差相等,𝑞𝑉𝐷=𝐸𝐹𝑛−𝐸𝐹𝑝势垒高度可分为两部分:𝑞𝑉𝐷=|𝑞𝑉𝑝|+|𝑞𝑉𝑛|,其中𝑉𝑝=𝐸𝑖𝑝−𝐸𝐹𝑝−𝑞,𝑉𝑛=𝐸𝑖𝑛−𝐸𝐹𝑛−𝑞,分别称为p区和n区的相对费米势。热平衡状态pn结的能带图qVD突变结接触电势差的大小𝑞𝑉𝐷=𝐸𝐹𝑛−𝐸𝐹𝑝•𝐸𝐹𝑛=𝐸𝑖𝑛+𝑘𝑇ln(𝑁𝑑𝑛𝑖)•𝐸𝐹𝑝=𝐸𝑖𝑝−𝑘𝑇ln(𝑁𝑎𝑛𝑖)•𝑉𝐷=𝐸𝐹𝑛−𝐸𝐹𝑝𝑞=𝐸𝑖𝑛−𝐸𝑖𝑝𝑞+𝑘𝑇𝑞ln𝑁𝑎𝑁𝑑𝑛𝑖2𝑉𝐷=𝑘𝑇𝑞ln𝑁𝑎𝑁𝑑𝑛𝑖2𝐏.𝐄.=−𝒒𝑽=𝑬𝒄−𝑬𝒓𝒆𝒇(6.2)𝐸𝑖𝑛和𝐸𝑖𝑝分别为接触前n区p区本征费米能级,两者相等电势与电势能变化趋势相反突变结的接触电势差由𝑞𝑉𝑛=𝐸𝑖𝑛−𝐸𝐹𝑛,𝑞𝑉𝑝=𝐸𝑖𝑝−𝐸𝐹𝑝及n区和p区多子浓度表达式:𝑛0=𝑁𝑑=𝑛𝑖exp(𝐸𝐹−𝐸𝑖𝑘𝑇);𝑝0=𝑁𝑎=𝑛𝑖exp(𝐸𝐹𝑖−𝐸𝐹𝑘𝑇)得:𝑉𝑛=−𝑘𝑇𝑞ln(𝑁𝑑𝑛𝑖)及𝑉𝑝=+𝑘𝑇𝑞ln(𝑁𝑎𝑛𝑖),代入𝑉𝐷=𝑉𝑛+|𝑉𝑝|:𝑉𝐷=𝑘𝑇𝑞ln𝑁𝑎𝑁𝑑𝑛𝑖2=𝑉𝑡ln(𝑁𝑎𝑁𝑑𝑛𝑖2)其中𝑉𝑡=𝑘𝑇𝑞称为热电压。注意:完全电离假设,Nd和Na分别为n区和p区补偿后的杂质浓度,而非同一块半导体的施主与受主浓度。PN结的接触电势差决定于掺杂浓度ND、NA、材料禁带宽度以及工作温度例6.1硅pn结的环境温度为T=300K,掺杂浓度分别为𝑁𝑎=2×1017cm−3,𝑁𝑑=1015cm−3,计算pn结中的接触电势差。解:由式(6.1)可知,内建电势差为:𝑉𝑏𝑖=𝑉𝑡ln𝑁𝑎𝑁𝑑𝑛𝑖2=0.0259ln[2×10171015(1.5×1010)2]=0.713V接触电势差例题能带内建电势电场电荷密度电势-能带-电场关系pn结的势垒高度与载流子浓度关系定义n型和p型半导体中的相对费米势为𝑉≡𝑉𝑖−𝑉𝐹,有−𝑞𝑉𝑝=−𝑞(𝑉𝑖𝑝−𝑉𝐹𝑝)=𝐸𝑖𝑝−𝐸𝐹𝑝=𝑘𝑇ln(𝑝𝑝0𝑛𝑖)≈𝑘𝑇𝑙𝑛(𝑁𝑎𝑛𝑖)𝑞𝑉𝑛=𝑞(𝑉𝑖𝑛−𝑉𝐹𝑛)=𝐸𝐹𝑛−𝐸𝑖𝑛=𝑘𝑇ln(𝑛𝑛0𝑛𝑖)≈𝑘𝑇𝑙𝑛(𝑁𝑑𝑛𝑖)相应的载流子浓度表示为𝑛=𝑛𝑖exp𝐸𝐹−𝐸𝑖𝑘𝑇=𝑛𝑖exp𝑞(𝑉𝑖−𝑉𝐹)𝑘𝑇=𝑛𝑖exp𝑞𝑉𝑛𝑘𝑇𝑝=𝑛𝑖exp𝐸𝑖−𝐸𝐹𝑘𝑇=𝑛𝑖exp𝑞(𝑉𝐹−𝑉𝑖)𝑘𝑇=𝑛𝑖exp−𝑞𝑉𝑝𝑘𝑇𝑞𝑉𝐷=𝑞(𝑉𝑛−𝑉𝑝)=𝐸𝑖𝑝−𝐸𝑖𝑛=𝑘𝑇ln𝑛𝑛0𝑝𝑝0𝑛𝑖2=𝑘𝑇ln𝑝𝑝0𝑝𝑛0=𝑘𝑇ln(𝑛𝑛0𝑛𝑝0)取p区电势为0,则势垒区电势V(x)为正值,电势能为E(x)=-qV(x)。n区电势为VD,电势能为Ecn=-qVD。势垒区电子浓度为:𝑛𝑥=𝑁𝑐exp𝐸𝐹−𝐸𝑥𝑘𝑇由𝑛𝑛0=𝑁𝑐exp𝐸𝐹−𝐸𝑐𝑛𝑘𝑇,可将n(x)写为𝑛𝑥=𝑛𝑛0exp𝐸cn−𝐸𝑥𝑘𝑇=𝑛𝑛0exp𝑞𝑉(𝑥)−𝑞𝑉𝐷𝑘𝑇当x=-xp时,V(x)=0,𝑛−𝑥𝑝=𝑛𝑛0exp(−𝑞𝑉𝐷𝑘𝑇),即𝑛𝑝0=𝑛𝑛0exp(−𝑞𝑉𝐷𝑘𝑇),则𝑛𝑥=𝑛𝑝0exp𝑞𝑉(𝑥)𝑘𝑇同理,𝑝𝑥=𝑝𝑝0exp−𝑞𝑉(𝑥)𝑘𝑇𝑝𝑛0=𝑝𝑝0exp(−𝑞𝑉𝐷𝑘𝑇)(6.3)pn结的载流子分布pn结的载流子分布与电导率pn结的载流子分布例题例6.2求势垒区内电势能比n区导带底Ecn高0.1eV位置处的载流子浓度。设势垒高度为0.7eV。解:𝑛𝑥=𝑛𝑛0exp𝐸cn−𝐸𝑥𝑘𝑇=𝑛𝑛0exp−0.10.026≈𝑛𝑛050≈𝑁𝐷50由𝐸𝑥=𝐸cn+0.1𝑒𝑉,可得:−𝑞𝑉𝑥=𝐸𝑥=−𝑞𝑉𝐷+0.1𝑒𝑉空穴浓度为𝑝𝑥=𝑝𝑝0exp−𝑞𝑉(𝑥)𝑘𝑇=𝑝𝑝0exp−0.60.026≈10−10𝑝𝑝0≈10−10𝑁𝐴由于室温下空间电荷区载流子浓度比n区和p区多数载流子浓度小得多,所以也称为耗尽区(层)。耗尽层载流子浓度可以忽略,空间电荷密度近似等于电离杂质浓度—耗尽层近似。pn结两端外加电压时,处于非平衡状态。p区接电源正极,n区接负极时为正向偏压。由于耗尽区电阻大,外加正向偏压基本降落在耗尽区,正向偏压减弱了势垒区电场强度,使势垒高度降为q(VD-V)内建电场减弱,使得扩散流大于漂移流。电子通过势垒区扩散进入p区,在边界处积累,形成非平衡少数载流子。非平衡少子向p区内部扩散,在一个扩散长度范围内称为扩散区。这种由外加正向偏压产生非平衡载流子的过程称为电注入pn结反向偏压p区接电源负极,n区接正极时为反向偏压,与内建电场方向相同。内建电场增强,势垒高度增加为q(VD+V),使漂移流大于扩散流。N区边界上的空穴被强电场驱向p区,p区边界的电子被驱向n区。内部少子扩散至边界,形成反向偏压下的少子扩散流。少子浓度很低,浓度梯度较小。反向偏压足够大时,边界处少子浓度为零,浓度梯度不变,因而扩散电流也不随偏压变化。pn结正反向偏压物理图像正向偏压反向偏压pn结正向偏压电流N区电子漂移至边界后,进入p区形成扩散电流。扩散过程中电子与漂移过来的空穴不断复合,转化为空穴电流。通过pn结的总电流是通过p区边界的电子扩散电流与通过n区边界的空穴扩散电流之和。pn结正反向偏压的能带图在非平衡载流子存在区域需使用准费米能级描述载流子分布。正向偏压下,p区准费米能级将低于n区;反向偏压下,p区准费米能级高于n区。从p区注入n区的空穴,随着离n区边界渐远,浓度减小,因此准费米能级升高。𝑬𝑭𝒏−𝑬𝑭𝒑=𝒒𝑽(正向);𝑬𝑭𝒑−𝑬𝑭𝒏=𝒒𝑽(反向)EF不再统一复习题平衡pn结有什么特点,画出势垒区中载流子漂移运动和扩散运动的方向。定性画出正向偏置时的pn结能带图,在图上标出准费米能级位置,与平衡时pn结能带图进行比较。
本文标题:第6章-pn结1-2
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