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麦拉福半导体物理学第3章习题及答案1.计算能量在E=Ec到2*n2CL2m100EE之间单位体积中的量子态数。解:2.试证明实际硅、锗中导带底附近状态密度公式为式(3-6)。322233*28100E21233*22100E0021233*231000L8100)(3222)(22)(1ZVZZ)(Z)(22)(2322C22CLEmhEEEmVdEEEmVdEEgVddEEgdEEmVEgcncCnlmhECnlmECnncnc)()(单位体积内的量子态数)()(21)(,)(2)()(,)(,)()(2~.2'213''''''2'21'21'21'2222222CaalttzyxacczlazytayxtaxztyxCCeEEmhkVmmmmkgkkkkkmhEkEkmmkkmmkkmmkmlkmkkhEkEKICEGsi系中的态密度在等能面仍为球形等能面系中在则:令)(关系为)(半导体的、证明:3123221232'2123231'2'''')()2(4)()(111100)()(24)(4)()(~ltncnclttzmmsmVEEhmEsgEgsiVEEhmmmdEdzEgdkkkgVkkgdkdEEE)方向有四个,锗在(旋转椭球,个方向,有六个对称的导带底在对于即状态数。空间所包含的空间的状态数等于在3.当E-EF为1.5k0T,4k0T,10k0T时,分别用费米分布函数和玻耳兹曼分布函数计算电子占据各该能级的概率。费米能级费米函数玻尔兹曼分布函数1.5k0T0.1820.2234k0T0.0180.018310k0T4.画出-78oC、室温(27oC)、500oC三个温度下的费米分布函数曲线,并进行比较。5.利用表3-2中的m*n,m*p数值,计算硅、锗、砷化镓在室温下的NC,NV以及本征载流子的浓度。FEETkEEeEfF011)(TkEEFeEf0)(51054.451054.4evEmommmAGevEmommmsievEmommmGeNNnhkoTmNhkoTmNgpnsagpngpnekoTEvcipvnCg428.1;47.;068.0:12.1;59.;08.1:67.0;37.;56.0:)()2(2)2(250000002212322326.计算硅在-78oC,27oC,300oC时的本征费米能级,假定它在禁带中间合理吗?所以假设本征费米能级在禁带中间合理,特别是温度不太高的情况下。7.①在室温下,锗的有效态密度Nc=1.051019cm-3,NV=3.91018cm-3,试求锗的载流子有效质量m*nm*p。计算77K时的NC和NV。已知300K时,Eg=0.67eV。77k时Eg=0.76eV。求这两个温度时锗的本征载流子浓度。②77K时,锗的电子浓度为1017cm-3,假定受主浓度为零,而Ec-ED=0.01eV,求锗中施主浓度ED为多少?eVkTeVkTKTeVkTeVkTKTeVmmkTeVkTKTmmkTEEEEmmmmSiSinpVCiFpn022.008.159.0ln43,0497.0573012.008.159.0ln43,026.03000072.008.159.0ln43,016.0195ln43259.0,08.1:3222001100时,当时,当时,当的本征费米能级,3173183'3183193'3''/1008.530077109.330077/1037.1300771005.13007730077772cmNNcmNNTTKNKNNNKVVCCCCVC)()()()()()(、时的)(317181717003777276.0211718313300267.0211819221/1017.1)1037.110067.001.021(10)21(2121exp21/1098.1)1008.51037.1(77/107.1)109.31005.1()()3(00000cmeNnkoTEenNeNeNNnncmenKcmeneNNnCoDDNnTkEDTkEEEEDTkEEDDkikikoTEgvciCoDFCcDFD时,室温:kgmNTkmkgmNTkmTmkNTmkNvpcnpvnc31031202310320223202320106.229.022101.556.022)2(2)2(21.7得)根据(8.利用题7所给的Nc和NV数值及Eg=0.67eV,求温度为300K和500K时,含施主浓度ND=51015cm-3,受主浓度NA=2109cm-3的锗中电子及空穴浓度为多少?9.计算施主杂质浓度分别为1016cm3,,1018cm-3,1019cm-3的硅在室温下的费米能级,并假定杂质是全部电离,再用算出的的费米能级核对一下,上述假定是否在每一种情况下都成立。计算时,取施主能级在导带底下的面的0.05eV。3150315031003150212202122020202000031521''313221/1084.4/1084.9500/108/105300)2(2)2(20)(0/109.6)(500/100.2)(300.8'020cmpcmnKtcmpcmnKTnNNNNpnNNNNnnNNnnnpnNNpncmeNNnKcmeNNnKiDADAiADADiADiADVCiTkEVciTkgeg时:时:根据电中性条件:时:时:%902111%102111%10%,9005.0)2(27.0.0108.210ln026.0;/10087.0108.210ln026.0;/1021.0108.210ln026.0;/10,ln/105.1/108.2,300,ln.90019193191918318191631603103190TkEEeNnTkEEeNneVEEeVEEEcmNeVEEEcmNeVEEEcmNNNTkEEcmncmNKTNNTkEEEFDDDFDDDDCccFDccFDccFDiDiFiCCDcFF或是否占据施主为施主杂质全部电离标准或时离区的解假设杂质全部由强电10.以施主杂质电离90%作为强电离的标准,求掺砷的n型锗在300K时,以杂质电离为主的饱和区掺杂质的浓度范围。11.若锗中施主杂质电离能ED=0.01eV,施主杂质浓度分别为ND=1014cm-3j及没有全部电离全部电离小于质数的百分比)未电离施主占总电离杂全部电离的上限求出硅中施主在室温下)(不成立不成立成立317181631716317026.005.0'026.0023.019026.0037.018026.016.0026.021.016105.210,10105.210/105.221.0,026.005.02%10()2(2%10%802111:10%302111:10%42.021112111:10cmNcmNcmeNNeNNkoTEeNNDeNnNeNnNeeNnNDDCDCDDCDDDDDDDEEDDDCD之上,大部分没有电离在,之下,但没有全电离在成立,全电离全电离,与也可比较)(0DFFDDDFFDDFDDFDFDEEEEcmNEEEEcmNEEcmNTkEEEE026.0023.0;/1026.0~037.0;/10026.016.021.005.0;/102319318316''31714313317026.00127.019026.00127.00319/1022.3~104.2~5/104.2/1022.321005.11.021.0026.00127.0exp2%10)exp(2300/1005.1,0127.0.10cmNnAcmnGNAcmeeNNNNTkENNDAKcmNeVEADisieDsCDCDDCDsCDs,即有效掺杂浓度为的掺杂浓度范围的本征浓度电离的部分,在室温下不能掺杂浓度超过限杂质全部电离的掺杂上以下,室温的电离能解上限上限上限1017cm-3。计算①99%电离;②90%电离;③50%电离时温度各为多少?12.若硅中施主杂质电离能ED=0.04eV,施主杂质浓度分别为1015cm-3,1018cm-3。计算①99%电离;②90%电离;③50%电离时温度各为多少?13.有一块掺磷的n型硅,ND=1015cm-3,分别计算温度为①77K;②300K;③500K;④800K时导带中电子浓度(本征载流子浓度数值查图3-7)14.计算含有施主杂质浓度为ND=91015cm-3,及受主杂质浓度为1.11016cm3,的硅在33K时的电子和空穴浓度以及费米能级的位置。eVnpTkEEeVNpTkEEcmpnncmNNpcmnSiKTiiFvVFiDAi336.0105.1102ln026.0ln224.0101.1102ln026.0ln10125.1102,105.1300101500191500350203150310或:饱和区流子浓度,处于强电离掺杂浓度远大于本征载的本征载流子浓度时,解:15.掺有浓度为每立方米为1022硼原子的硅材料,分别计算①300K;②600K时费米能级的位置及多子和少子浓度(本征载流子浓度数值查图3-7)。3170317315203143150315310/10/108000)4(/1014.124~/104500)3(/10/10/103002.13cmnncmnKcmnNNnNcmnKcmNncmNcmnKiiiDDDiDDi时,过度区时,强电离区时,)(eVnpTkEEcmncmpnpnNnpcmnKTeVNpTkEEeVnpTkEEcmpnncmpacmnKTiiFiAivVEiiEii025.01011062.1ln052.0ln/1017.6/1062.1/101600)2(184.0ln359.01010ln026.0ln/1025.2/10,/105.1300)1(161600315031602000031600101600340203160310处于过渡区:时,或杂质全部电离时,16.掺有浓度为每立方米为1.51023砷原子和立方米51022铟的锗材料,分别计算①300K;②600K时费米能级的位置及多子和少子浓度(本征载流子浓度数值查图3-7)。浓度接近,处于过度区本征载流子浓度与掺杂和区度,所以处于强电离饱度远大于本征载流子浓能够全部电离,杂质浓杂质在解:3171317003917260203170313316317102:60022.0102101ln026.0ln10101104101300102:300105,105.1cmnKeVnn
本文标题:刘恩科-半导体物理学(第7版)第三章
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