L-Edit绘制版图

2020/4/15L-Edit的使用方法L-Edit是TannerToolsPro工具软件中的一个软件包，可以在同一窗口中进行版图设计、设计规则检查、网表提取、标准单元自动布局与连线等工作。配合在S-Edit中建立的相应电路，可以在TannerToolsPro提供的另一个工具LVS完成布局与电路的比对。在本章中将介绍L-Edit的使用与版图设计及网表提取。2020/4/1510.1L-Edit的窗口介绍图3.1为L-Edit的窗口，包括标题栏、工具栏、位置显示区、鼠标功能说明、状态栏、绘图区等项目。还有层的定义区，用以定义现在要进行绘制和编辑的层。2020/4/15图3.1L-Edit窗口绘图区标题栏工具栏位置显示区层定义区鼠标功能说明状态栏2020/4/152．应用参数设置执行Setup/Application子命令进入应用设置对话框，如图3.5所示，包括热键和鼠标作用的某些设定。（1）配置文件设置栏“Workgroup”填充框用来指定设计组应用配置文件的路径和名称。“User”填充框用来指定设计者应用配置文件的路径和名称。2020/4/153.5.3对象的移动对象的移动可以分为：图形移动、递增移动、数字移动与更改方向移动。这些移动可以是一个对象，也可以是一群对象的移动。（1）图形移动先选择所要移动的对象，使用鼠标的中间键(Move-Edit)即可拖曳对象到新的位置，如果已经有对象在选择的状态下，则该对象就可以被移动；若是尚未有对象在选择的状态下，则鼠标附近的对象(隐选的方式)会被移动。（2）递增移动使用表3.2中四个命令可以对己选择的对象进行搬移，所移动的量是在Setup/Design子命令设计参数对话框中的Nudgeamount填充框中设置。2020/4/15表3.2递增移动命令热键表2020/4/15（3）数字移动执行Draw/MoveBy子命令会出现MoveBy对话框，在对话框中填入X和Y轴方向的移动量，单击OK按钮即可。（4）更改方向L-Edit提供三种更改方向的命令：旋转(Draw/Rotate)、水平映像(Draw/Flip/Horizontal)、与垂直映像(Draw/Flip/Vertical)。这些对象方向的改变都是以对象几何中心为转轴，即使是多数个对象也是如此。2020/4/153.6视图的操作每个窗口显示一个单元版图的一部分。显示在窗口中的版图的子集称为视图。可以用平移（Panning）当前窗口的方法来显示版图中不同区域的视图，也可以用缩放（Zooming）使在窗口中显示版图的较大或较小区域的视图。在版图绘制中，移动和编辑的任何阶段都可以做平移和缩放操作。1.窗口的平移平移的命令共有9种，如表3.3所示，平移只移动窗口，而版图是不动的。当窗口向一个方向移动，视图中的对象将向相反的方向移动。2020/4/152020/4/152.窗口的缩放L-Edit提供4种缩放的功能，可以借着放大缩小的功能来改变视图。其功能如表3.4所示。2020/4/15画版图的步骤1.进入L-Edit2.建立新文件3.环境设定4.编辑元件5.绘制多种图层形状6.设计规则检查（DRC）7.修改对象8.设计规则检查（DRC）9.版图提取2020/4/15用L-Edit画PMOS版图的步骤（1）打开L-Edit程序：L-Edit会自动将工作文件命名为Layout1.tdb并显示在窗口的标题栏上，如图3.35所示。（2）另存为新文件：选择执行File/SaveAs子命令，打开“另存为”对话框，在“保存在”下拉列表框中选择存贮目录，在“文件名”文本框中输入新文件名称，如Ex1。图3.35L-Edit的标题栏2020/4/15（3）替换设置信息：用于将已有的设计文件的设定（如格点、图层等）应用于当前的文件中。选择执行File/ReplaceSetup子命令打开对话框，单击“FromFile”栏填充框的右侧的Browser按钮，选择X:\Tanner\Ledit100\Samples\SPR\example1\lights.tdb文件，如图3.36所示，单击OK就将lights.tdb文件中的格点、图层等设定应用在当前文件中。2020/4/15图3.36替换设置信息对话框2020/4/15图3.36替换设置信息对话框（4）编辑单元：L-Edit编辑方式是以单元（Cell）为单位而不是以文件（File）为单位的，每一个文件可有多个Cell，而每一个Cell可表示一种电路的版图或说明，每次打开新文件时自动打开一个Cell并将之命名为Cell0，如图3.37所示，其中编辑窗口中的十字为坐标原点。（5）设计环境设置：绘制版图时必须要有确定的大小，因此在绘图前首先要确定或设定坐标与实际长度的关系。选择执行Setup/Design子命令，弹出SetupDesign对话框，在Technology标签页中可设置工艺的名称、单位等，本例以Lambda为单位，而Lambda与内部单位（InternalUnit）的关系可在Technologysetup选项中进行设置，如图3.38所示，设定1个Lambda为1000个InternalUnit，即设定1个Lambda等于1个Micron。2020/4/15图3.37编辑单元Cell02020/4/15图3.38工艺设定2020/4/15Grid标签页用于显示栅格、鼠标栅格和定位栅格的设置，如图3.39所示。在“Griddisplay”栏内设定1个显示栅格点（Displayedgrid）等于1个坐标单位（Locatorunit），在“Suppressgridlessthan”框中设置8，表示当栅格小于8个像素时不显示；在“Mousegrid”栏中，设定鼠标光标显示（Cursortype）为Smooth类型，在“Mousesnapgrid”框中设定鼠标锁定的栅格为0.5个坐标单位；在“Locatorunit”栏中设定1个坐标为1000个内部单位。设定结果为1个栅格的距离等于1个坐标单位也等于1个Micron。2020/4/15图3.39栅格的设定2020/4/15（6）图层的设置：在Layers面板的下拉列表中选取图层。PMOS版图需要用到NWell、Active、NSelect、Pselect、Ploy、Matal1、Matal2、ActiveContact、Via等图层。图3.40设置设计规则对话框（7）绘制NWell：在P型衬底上制作PMOS管，首先要制作NWell。而NWell的最小宽度必须满足所选工艺规则。本例使用由软件提供的MOSIS/ORBIT2.0U设计规则。查看NWell绘制要遵守的设计规则可选择Tools/DRC命令，打开DesignRuleCheck对话框，单击其中Setup按钮会出现SetupDesignRule对话框（或单击图标），再从其中的Ruleslist列表框选择1.1Well2020/4/15图3.40设置设计规则对话框2020/4/15MinimumWidth选项，可知NWell的最小宽度有10个Lambda的要求，如图3.40所示。图6NWell设计规则在Layers面板的下拉列表中选取NWell选项，再从Drawing工具栏中选择按钮，在Cell0编辑窗口画出横向24格纵向15格的方形即为NWell，如图3.41所示。2020/4/15图3.41绘制NWell2020/4/15（8）截面观察：L-Edit具有截面观察功能，可以观察该版图设计流片后的断面情况。选择Tools/Cross-Section子命令（或单击按钮），打开GenerateCross-Section对话框，如图3.42所示。图3.42截面产生设置2020/4/15单击对话框中的Brower按钮，在弹出的对话框中选择C:\Tanner\LEdit83\amples\SPR\example1\lights.xst文件，再单击Pick按钮在编辑画面中选择要观察的位置，然后单击OK按钮，结果如图3.43所示。单击截面图中的关闭按钮可取消截面状态，恢复到画图状态。状态栏中的Well2020/4/15图3.43NWell截面图2020/4/15X指NWell的意思，截面图中NWell宽度与版图中的NWell的宽度是一致的。图3.44Active设计规则（9）绘制Active图层：首先要了解设计规则对有源区的要求。选择Tools/DRC命令，打开DesignRuleCheck对话框，单击其中Setup按钮会出现SetupDesignRule对话框（或单击图标），再从其中的Ruleslist列表框选择2.1ActiveMinimumWidth选项，可知Active的最小宽度有3个Lambda的要求，如图3.44所示。2020/4/15图3.44Active设计规则2020/4/15在Layers面板的下拉列表中选取Active选项，再从Drawing工具栏中选择按钮，在Cell0编辑窗口的NWell中画出横向14格纵向5格的方形Active区，如图3.45所示。2020/4/15图3.45绘制Active区2020/4/15（10）Active区截面观察：选择Tools/Cross-Section命令（或单击按钮），打开GenerateCross-Section对话框，单击Pick按钮，再在编辑画面中选择要观察的位置，然后单击OK按钮，结果如图3.46所示。2020/4/15图3.46Active截面图2020/4/15（11）设计规则检查：选择Tools/DRC命令，打开DesignRuleCheck对话框，选中Writeerrorstofiles复选框将错误项目记录到Cell0.drc文件或自行取文件名，若单击“确定”按钮，则进行设计规则检查，结果如图3.47所示。发现一个错误，单击“确定”按钮后，可执行Tools/ClearErrorLayer命令（或单击按钮）清除错误符号。2020/4/15图3.47设计规则检查2020/4/15执行File/Open命令打开错误记录文件Cell0.drc，其内容如图3.48所示，有一个错误，版图设计违反了设计规则4.6，并标出发生错误的坐标范围。2020/4/15图3.48设计规则检查结果2020/4/15选择执行Tools/DRC命令，打开DesignRuleCheck对话框，单击其中Setup按钮会出现SetupDesignRule对话框（或单击图标），再从其中的Ruleslist列表框选择4.6NotExisting选项，可知观察该设计规则的规定，如图3.49所示。2020/4/15图3.49设计规则2020/4/154.6的规则说明NotSelectedActive层不能存在，NotSelectedActive层的定义可以选择Setup/Layers命令观察其定义，如图3.50所示。4.6规则是指Active图层必须要与PSelect图层或NSelect重叠，而不能单独存在，否则设计规则检查会出错。2020/4/15图3.50NotSelectedActive层的定义2020/4/15（12）绘制PSelect图层：在PMOS中有源区是P型杂质，PSelect层是要定义P型杂质的范围，在工艺中要设计光刻掩膜板以限定P型杂质的区域。但要注意PSelect区域要包住Active区，否则设计规则检查会有错误。在MSOIS/ORBIT2.0U设计规则中，规则4.2b/2.5规定了有源区的边界与PSelect的边界至少要有2个Lambda的距离，这是包围（Surround）规则，如图3.51所示。2020/4/15图3.51PSelect设计规则2020/4/15选取Layers面板中下拉列表中的PSelect选项，在NWell中绘制横向18格，纵向9格的PSelect区，如图3.52所示。图中标出了4.2b中环绕规则所规定的区域。2020/4/15图3.52绘制PSelect结果2