IM消影玻璃镀膜技术讲解

IM消影玻璃镀膜技术工艺内容提要什么是消影ITO消影ITO的膜层结构消影ITO的特性消影ITO技术指标消影ITO的工艺控制参数IM膜层调试方法什么是消影ITO消影ITO玻璃:是通过在ITO膜和玻璃之间镀上一层IM膜(INDEXMARGIN层)，使ITO玻璃在刻蚀制作电容屏线路之后，可见光波长500nm—650nm区间,ITO层蚀刻前后反射率△R%0.5%,减少ITO区域和非ITO区域的视觉反差，使得电容屏ITO刻蚀线条变淡，线路的图案在常光下看不见图案线条，起到消除图案的效果的IM+ITO玻璃。消影ITO与普通ITO比较，具备同样导电性的同时还以下优点:1.玻璃透过率增加，反射率减小具有AR膜功能，在同等背光源的前提下，能通过减少环境光影响获得更好的视觉亮度；2.减少ITO区域和刻蚀后非ITO区域的视觉反差，使得电容屏ITO刻蚀线条变淡，提高视觉效果。消影ITO的膜层结构膜层组合GLASSITO层IM层膜系组成：IM(NB2O5/SiO2)+ITO根据ITO阻值不同，IM层厚度也需要做不同的调整。目前常用的消影ITO阻值为80~120Ω/□ITO膜厚范围20-27nm消影ITO的特性透过曲线比较普通ITO消影ITO消影ITO的特性反射曲线比较消影ITO的特性1.ITO消影玻璃在λ=500~650nm范围，ITO刻蚀前反射R%与刻蚀后反射r%的差小于0.5是最佳的消影效果即符合公式2.CIEL*a*b*反射颜色值符合公式：(UV-2401PC)5.0%%%rRR5.1***5.0***后前后前bbbaaa消影ITO工艺指标（内控）——透过与反射IM层550nm透过率最佳控制在90.5%±0.2%，反射率控制在8.8%±0.2%。类别400nm450nm550nm650nmT%刻蚀前≥89%≥89%≥90%≥90%R%刻蚀前≤11.%≤9.8%≤9%≤9%t%刻蚀后89.5~91%89.5~91%90.3~91%90~91.5%r%刻蚀后8~9.1%8.3~9.5%8.5~9%8.3~9.0%消影ITO工艺指标——颜色指标CIEL*a*b*范围（反射颜色）反射550nm颜色值控制：标准值：-1.0≤a*≤0-3.0≤b*≤1.0内控值：-1.0≤a*≤-0.5-2.0≤b*≤0.5注意：CIEL*a*b*颜色坐标值，a*与b*尽可能控制在负值范围内，所做出来的产品颜色才保证不会发黄。消影ITO的工艺控制参数靶材：NB,SiAl靶+ITO靶（连镀）阴极靶位：NB靶（1个）SiAl靶（5个）；ITO靶（2个）温度设置：设定200°C--450°C气体及功率详细工艺根据设备不同而定消影ITO的工艺控制参数IM层膜厚控制：（总膜厚75-78nm）NB2O54.8~6nm（DT或康宁玻璃5.6~6.4nm）SiO266~72nm（DT或康宁玻璃60~64nm）说明：各层膜厚准确控制，是消影效果的保证，设计膜系厚度NB/6；SIO2/64；配合ITO/24是理想的膜厚。IM膜层调试按工艺指导书参考工艺卡，设定各层使用的功率试镀，工艺片采用0.7mm薄片，基板采用客户报废的原基片玻璃。F20检测薄的膜层时偏差较大，因此，第一层NB2O5膜厚并不准确，调试过程只做光谱曲线参考，主要依据UV2450扫描光谱曲线对照各波段反射指标控制。IM膜层调试膜厚变化调整规律：当NB2O5层膜偏厚时反射曲线会以中部为点整体上抬，反射率增大，反之，偏薄则会整体下降，趋向平直，反射率减小。当SiO2层偏厚，反射曲线随着膜厚的增加而下降，且450nm以下越向下弯，反射率减小。超过90nm厚度后，400nm反而向上翘起。膜厚偏薄时，反射率增大，随着厚度减小，450nm以下的曲线逐步向上抬高。当两层都薄时，曲线变为从400nm向700nm倾斜；当两层都厚时曲线从550nm处前端开始向下弯曲。IM膜层调试（颜色控制)颜色值控制负值范围方法：1、当发现颜色值出现正值，说明600nm之后的反射增加了，查看反射曲线，如反射率在控制范围，只需将第二层膜厚减小，使反射曲线的反射率从450nm向650nm递减，一般情况都可以纠正过。2、假如反射率曲线都很低，除了减少第二层膜厚之外，第一层适当的增加膜厚。参考附件：正常工艺曲线参考附件：正常工艺曲线UV-2450曲线参考附件：异常SIO2偏厚参考附件：异常NB2O5/SIO2两层都薄参考附件：异常NB2O5厚谢谢