CN201620562178X厌氧污泥处理装置公开号205838695

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)实用新型专利(10)授权公告号(45)授权公告日(21)申请号201620562178.X(22)申请日2016.06.12(73)专利权人武汉东川自来水科技开发有限公司地址430000湖北省武汉市硚口区古田五路17号硚口科技孵化器新1号楼209室(72)发明人刘川　刘晓川　(74)专利代理机构武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙)42231代理人黄君军(51)Int.Cl.C02F3/34(2006.01)(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利(54)实用新型名称厌氧污泥处理装置(57)摘要本实用新型公开一种厌氧污泥处理装置，用于处理厌氧反应器内形成的污泥，包括沉淀池，一端设于所述沉淀池底部、另一端延伸至沉淀池外的排泥管，内设于所述沉淀池池口端的溢水堰，均与所述溢水堰连通的出水管和回流管，一端与厌氧反应器连接、另一端延伸至所述沉淀池内的进水管，及一用于检测所述沉淀池内液面溶氧量的溶氧仪；其中，所述进水管上设置有射流孔和控制所述射流孔内混合液喷射速度和喷射高度的调节阀。本实用新型通过在进水管上设置射流孔将厌氧反应后的含有厌氧污泥的污水喷射出来，使固、液、气在喷射后的液面发生反应，反应形成的含有亚硝酸盐的溶液可进行重复性利用，反应后的污泥有利于后续处理。权利要求书1页说明书3页附图1页CN205838695U2016.12.28CN205838695U1.一种厌氧污泥处理装置，用于处理厌氧反应器内形成的污泥，其特征在于，包括沉淀池，一端设于所述沉淀池底部、另一端延伸至沉淀池外的排泥管，内设于所述沉淀池池口端的溢水堰，均与所述溢水堰连通的出水管和回流管，一端与厌氧反应器连接、另一端延伸至所述沉淀池内的进水管，及一用于检测所述沉淀池内液面溶氧量的溶氧仪；其中，所述进水管上设置有射流孔和控制所述射流孔内混合液喷射速度和喷射高度的调节阀。2.根据权利要求1所述的厌氧污泥处理装置，其特征在于，所述进水管包括竖直设置于所述沉淀池内的射流管及连接所述射流管与所述厌氧反应器的连接管，所述射流孔设置于所述射流管上。3.根据权利要求2所述的厌氧污泥处理装置，其特征在于，所述沉淀池横截面呈方形，所述射流管设于所述沉淀池中部。4.根据权利要求2或3所述的厌氧污泥处理装置，其特征在于，所述射流孔靠近所述沉淀池池口端面所在平面设置。5.根据权利要求4所述的厌氧污泥处理装置，其特征在于，所述射流孔位于所述沉淀池池口端面所在平面下方20～50cm。6.根据权利要求2或3所述的厌氧污泥处理装置，其特征在于，所述射流孔为多个，且沿射流管周向布置。7.根据权利要求1～3任一所述的厌氧污泥处理装置，其特征在于，所述沉淀池底部设置有斜板，所述斜板合围形成一沉淀区，所述沉淀区呈方形且横截面由下至上逐渐增加。8.根据权利要求1～3任一所述的厌氧污泥处理装置，其特征在于，所述溢水堰沿所述沉淀池内壁布置呈环状。9.根据权利要求3所述的厌氧污泥处理装置，其特征在于，所述厌氧污泥处理装置还包括呈十字型的固定支架，所述固定支架的四个自由端均固定于所述溢水堰，所述固定支架中部连接于所述射流管。权　利　要　求　书1/1页2CN205838695U2厌氧污泥处理装置技术领域[0001]本实用新型涉及厌氧污泥收集技术，尤其是涉及一种厌氧污泥处理装置。背景技术[0002]常规的厌氧污泥反应器有UASB、EGSB、IC等，其主要通过上升流培养厌氧污泥颗粒进行厌氧反应实现污水处理，为了避免环境污染，厌氧反应后形成的厌氧污泥需要经过多层次处理才可排放。目前，对于厌氧污泥的处理方式有很多种，但一般均采用常规的除污方式，一方面增加了除污过程中的大量能耗，另一方面也造成了厌氧污泥中大量有益成分的浪费。实用新型内容[0003]本实用新型的目的在于克服上述技术不足，提出一种厌氧污泥处理装置，其通过对厌氧污泥的简单处理实现了厌氧污泥中有益成分的回收利用，也降低了后续的生化反应的能源消耗。[0004]为达到上述技术目的，本实用新型的技术方案提供一种厌氧污泥处理装置，用于处理厌氧反应器内形成的污泥，包括沉淀池，一端设于所述沉淀池底部、另一端延伸至沉淀池外的排泥管，内设于所述沉淀池池口端的溢水堰，均与所述溢水堰连通的出水管和回流管，一端与厌氧反应器连接、另一端延伸至所述沉淀池内的进水管，及一用于检测所述沉淀池内液面溶氧量的溶氧仪；其中，所述进水管上设置有射流孔和控制所述射流孔内混合液喷射速度和喷射高度的调节阀。[0005]优选的，所述进水管包括竖直设置于所述沉淀池内的射流管及连接所述射流管与所述厌氧反应器的连接管，所述射流孔设置于所述射流管上。[0006]优选的，所述沉淀池横截面呈方形，所述射流管设于所述沉淀池中部。[0007]优选的，所述射流孔靠近所述沉淀池池口端面所在平面设置。[0008]优选的，所述射流孔位于所述沉淀池池口端面所在平面下方20～50cm。[0009]优选的，所述射流孔为多个，且沿射流管周向布置。[0010]优选的，所述沉淀池底部设置有斜板，所述斜板合围形成一沉淀区，所述沉淀区呈方形且横截面由下至上逐渐增加。[0011]优选的，所述溢水堰沿所述沉淀池内壁布置呈环状。[0012]优选的，所述厌氧污泥处理装置还包括呈十字型的固定支架，所述固定支架的四个自由端均固定于所述溢水堰，所述固定支架中部连接于所述射流管。[0013]与现有技术相比，本实用新型通过在进水管上设置射流孔将厌氧反应后的含有厌氧污泥的污水喷射出来，使固、液、气在喷射后的液面发生反应，反应形成的含有亚硝酸盐的溶液可进行重复性利用，反应后的污泥有利于后续处理。附图说明说　明　书1/3页3CN205838695U3[0014]图1是本实用新型的厌氧污泥处理装置的连接结构示意图；[0015]图2是本实用新型的图1的俯视图。具体实施方式[0016]为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。[0017]请参阅图1、图2，本实用新型的实施例提供了一种厌氧污泥处理装置，用于处理厌氧反应器内形成的污泥，包括沉淀池1，一端设于所述沉淀池1底部、另一端延伸至沉淀池1外的排泥管2，内设于所述沉淀池1池口端的溢水堰3，均与所述溢水堰3连通的出水管4和回流管5，一端与厌氧反应器连接、另一端延伸至所述沉淀池1内的进水管6，及一用于检测所述沉淀池1内液面溶氧量的溶氧仪10；其中，所述进水管6上设置有射流孔7和控制所述射流孔7内混合液喷射速度和喷射高度的调节阀11。[0018]具体的，厌氧反应器可采用间歇性反应器，当间歇性厌氧反应器处于进水状态时，厌氧反应后的含有厌氧污泥的污水则处于出水状态，厌氧污泥、污水和少量甲烷气体的混合物进入进水管6，含有污泥比重较大的固液混合物从进水管6的出水端流至沉淀池1底部，进而通过排泥管2排出；而含有甲烷气体的部分污泥和污水则从射流孔7喷射而出，从而使得喷射出来的固液落至沉淀池1内，并在沉淀池1内形成固液气三相反应界面，该三相反应界面即为沉淀池1内液面，同时在射流孔7内设置调节阀11以控制喷射流的流速及与反应界面的高度，具体的可通过溶氧仪10检测沉淀池1内液面的溶氧量，控制调节阀11控制射流孔喷射的速度和高度至溶氧仪10检测的液面的溶氧量为0～0.5mg/L，优选为0.4～0.5mg/L，从而使得反应界面富集亚硝酸盐红菌，进而使喷射后的固液混合物中氨氮形成亚硝酸盐，固液混合物中的甲烷则被氧化，反应后含有亚硝酸盐的上层液可进行重复性利用，具体为将其中的部分通过回流管5回流至水解酸化阶段进行反硝化反应。[0019]其中，设置时，可将所述进水管6设置为包括竖直设置于所述沉淀池1内的射流管61及连接所述射流管61与所述厌氧反应器的连接管62，所述射流孔7设置于所述射流管61上。[0020]沉淀池1设置时可根据需要设置为不同形状，本实施例优选将所述沉淀池1设置为横截面呈方形，以便于所述射流管61设于所述沉淀池1中部，对应的可将所述射流孔7设置为多个，且沿射流管61周向布置，从而使得多个射流孔7沿射流管61周向喷射固液混合物，有利于提高喷射和反应效率。[0021]由于喷射的固液混合物需要与空气充分接触并发生反应，射流孔7设置时应高于沉淀池1内的液面，故本实施例所述射流孔7靠近所述沉淀池池1口端面所在平面设置。而为了避免固液混合物喷射至沉淀池1外部，可将射流孔7设于所述沉淀池1池口端面所在平面下方20～50cm，一般可设置于略高于溢水堰3上端。[0022]射流孔7喷射时，易发生振动导致喷射均衡性降低，故本实施例所述厌氧污泥处理装置还包括呈十字型的固定支架8，所述固定支架8的四个自由端均固定于所述溢水堰3，所述固定支架8中部连接于所述射流管61。且溶氧仪10也可固定于固定支架8上。[0023]其中，为了增加溢水堰3的溢水效果，可将溢水堰3沿所述沉淀池1内壁布置呈环说　明　书2/3页4CN205838695U4状，从而增加了溢水堰3的面积，同时也不会对喷射产生影响。[0024]相对应的，为了提高沉淀效率，所述沉淀池1底部设置有斜板9，所述斜板合9围形成一沉淀区，所述沉淀区呈方形且横截面由下至上逐渐增加，且斜板9相对水平的倾斜角度为30～60°，以便于污泥沉淀至沉淀池1底部。[0025]与现有技术相比，本发明通过在进水管上设置射流孔将污水与厌氧反应后的厌氧污泥的混合物喷射出来，使固、液、气在喷射后的液面发生反应，反应形成的含有亚硝酸盐的溶液可进行重复性利用，反应后的污泥有利于后续处理。[0026]以上所述本实用新型的具体实施方式，并不构成对本实用新型保护范围的限定。任何根据本实用新型的技术构思所做出的各种其他相应的改变与变形，均应包含在本实用新型权利要求的保护范围内。说　明　书3/3页5CN205838695U5图1图2说　明　书　附　图1/1页6CN205838695U6