您好,欢迎访问三七文档
PowerSemiconductorDevicesandSmartPowerICsByYardeni05/2015Page1AnswersofQuestionsChapter11-1.Pleaseclassifythepowersemiconductordiscretedevices.A:powerrectifiersandpowerswitches.功率整流器和功率开关1-2.Pleaselistthenameofpopularpowerswitch.A:powerMOSFET,powerBJT,IGBT,etc.功率MOS管,功率BJT管,IGBT等1-3.Definetheidealpowersemiconductordevice.A:ItmustbeabletocontroltheflowofpowertoloadswithZEROpowerdissipation.零功耗(包括导通损耗,关断损耗,开关损耗,均为零)1-4.Drawingouttheswitchingwaveformofidealpowerswitch.A:1-5.Listthedevicenameyouknownthathasthenormally-offperformance.A:Normally-off:BJT,EnhancementMOSFET,VDMOS,TrenchMOS,IGBT,Normally-on:JFET,DepletionMOSFET.1-6.Whichispreferablefornormalsystem,normally-ondeviceornormally-off?Givethereason.A:Fornormalsystem,normally-offdeviceispreferableasithasthepowerdissipationlowerthannormally-ondevice’s.常关器件更好。因为开通功耗(有电流)大于关断功耗(近似无电流),所以常关器件比常开器件具有更低功耗。1-7.Listtheinternationalsemiconductorcompanynameyouknowthatproductsthepowersemiconductordevices.PowerSemiconductorDevicesandSmartPowerICsByYardeni05/2015Page2A:TI,Onsemi,Freescale,Fairchild,ST,Infineon,NXP,Vishay,ADI,Maxim,ROHM1-8.Listthespecialpointsofpowersemiconductordevicescomparingwiththedigitalsemiconductordevices.A:highervoltageandlargercurrent,bigger/specialprocesstechnology,longerlifecycle.功率器件通常应用在高压、大电流环境,大线宽、特殊工艺,生命周期长。数字器件通常应用在低压、小电流环境,小线宽、标准工艺,生命周期短。Chapter22-1.whatismeantbyimpactionizationcoefficientofhole(electron)?耗尽区内,一个空穴(电子)在电场作用下,通过1cm的长度上产生的电子-空穴对的数目,定义为空穴(电子)的碰撞电离系数p(n)。2-2.whatisaplanejunction?平行平面结是一维二极管,理想PN结,具有一维性质的电场。2-3.definethepunch-throughdiodestructure.PiN二极管,反向耐压最大时i区全耗尽,称为穿通型二极管结构。2-4.whydoestheimpactionizationcoefficientincreasewiththeincreasingoftheelectricfieldanditdecreasewiththeincreasingoftemperature?碰撞电离系数是电场的强函数p(n)∝E7,电场增加碰撞电离系数增大;随着温度升高,晶格振动加剧,载流子更容易与晶格碰撞失去能量,产生的电子-空穴数目减少,所以温度升高碰撞电离系数减小。2-5.10dxdx一个电子(空穴)在耗尽区内与晶格原子发生碰撞,产生一个电子-空穴对,器件即发生雪崩击穿,2-6.Whichstructurehasthelargestbreakdownvoltageunderthesamejunctiondepth:planejunction,cylindricaljunctionandsphericaljunction?Why?平行平面结具有最大BV。圆柱结(二维场)和球面结(三维场)因为曲率的存在,电场集中,更易击穿。PowerSemiconductorDevicesandSmartPowerICsByYardeni05/2015Page3E(圆柱)=√Ex2+Ey2E(球面)=√Ex2+Ey2+Ez22-7.Explaintheeffectoftheoxidechargeronthebreakdownvoltageinthefieldplatedesign.氧化层电荷是正电荷,浓度在1010~1012/cm2。由于额外正电荷的引入,对N+P结,耗尽层边缘会展宽,器件的BV增加;相对P+N结则产生负作用,耗尽层缩小,器件BV降低。Chapter33-1.Definethehigh-levelinjection所谓大注入,即注入半导体中的非平衡少子浓度接近或者超过平衡时多子的浓度。3-2.DefinetheconductivitymodulationPiN二极管,正向导通时,对i区,P+注入大量空穴,N+注入大量电子,电子-空穴对浓度可以从1014上升到1018,电导率急速上升,这叫电导调制效应。其可使PiN二极管承担小压降,大电流。3-3/4.DrawingoutthestructureofJBS/MPSanddescribingitsoperationmechanism.图见page97/98,(注意JBS漂移区比MPS要薄)JBS,采用肖特基势垒低的金属与半导体结合;正向时,PN结不导通,只有电子参与导电,开关速度快;反向时,PN结耗尽区随电压升高展宽,最终连成一体,隔离肖特基势垒,其耐压由PN结来承受,泄漏电流小,由于漂移区比MPS薄,BV比MPS低。MPS,正向电压0.5V时,PN结不导通,工作类似于肖特基二极管。正向电压0.6V时,PN结导通,空穴注入漂移区,产生电导调制效应,压降小电流大,由于电子空穴都参与导电,开关速度低于JBS;反向耐压机制与JBS一样,但由于漂移区更厚,BV较JBS高。3-5.WhatistheovershootofthepowerPiNrectifiers对PiN管,开启时如果电流变化过快(di/dt较大),其正向压降开始时会超过在稳态时传输相同电流的压降,此现象叫功率PiN管的电压过冲。因为此时i区没有完全被电导调制,电阻还很大,则产生较大压降。PowerSemiconductorDevicesandSmartPowerICsByYardeni05/2015Page43-6.ExplainwhytheSiSchottkydiodecannotoperateathigh-voltagecondition?硅基肖特基二极管是多子器件,无空穴参与导电,反向时N-承担耐压;无电导调制效应,正向导通时N-区电阻很大;根据Ron.sp∝BV2~2.5,电压升高导通电阻(导通损耗)急剧上升。所以SBD一般应用600V。3-7.whichstructurehasthehigherleakagecurrent,SchottkydiodeorPiNdiode?Why?肖特基二极管泄漏电流更大。PiN泄漏电流由2部分组成,空间电荷区的产生电流,中性区P+和N+少子的扩散电流。SBD泄漏电流除了同PiN的相似的2部分,还有金半接触带来的热电子发射电流,并且后者比前2者大得多。Chapter44-1.Whatisthemeantbyreachthroughbreakdown(orpunchthroughbreakdown)?随着BC结反偏电压增加,BC结耗尽层展宽并接触到BE结耗尽层的时候,BE结势垒变低,发射极电子可以越过更低的一个势垒,被反偏BC结电场抽走,此现象叫穿通击穿。4-2.WhatisthemeantbyBVCBOandBVCEO?BVCBO,开发射极击穿电压;发射极开路,集电极与基极之间的击穿电压。BVCEO,开基极击穿电压;基极开路,集电极与发射极之间的击穿电压。4-3.Thecollectorefficiencyunderwhatconditionismuchlargerthanunit?当CB结的偏置电压可以和雪崩击穿电压相比拟的时候,集电极效率远大于1.4-4.WhydoesthepowerBJTcanoperateathigh-levelcurrentwhenitlocatesatitssaturationregion?BJT在饱和区的时候VBE0,VBC0,VCE很小;BC结正偏,相当于PN-N+二极管工作在正偏情况下,发生大注入现象(电导调制效应),电阻降低,所以在饱和区可以传导大电流。PowerSemiconductorDevicesandSmartPowerICsByYardeni05/2015Page54-5.whatshouldbecarefullyconsideredwhenyoudesignthebaseofthepowerBJT?1,掺杂不能太淡或者基区不能太薄,否则容易发生穿通击穿2,掺杂很高或者基区很厚,增益太低,需要更大控制电流IB所以需要一个折中。4-6.whyICEOICBO?ICBO是二极管泄漏电流,ICEO会被BJT放大,有公式ICEO=(1+ß)ICBO,所以ICEOICBO。4-7.explainthereasonofthehighvoltageBJTusuallyhaslowcurrentgain.高压BJT的基区掺杂浓度比较高,厚度比较厚,防止穿通击穿,所以增益低。4-8.explainthereasonthatthehighvoltageBJTusuallyhaslongcollectiondriftregion.因为集电极承担高压,所以高压BJT设计一个长的轻掺杂的集电漂移区来阻断高压。Chapter55-1.Whatismeantbythyristor?晶闸管是一个四层三结PNPN结构,有三极(阳极,阴极和门极),脉冲触发器件;具有开态低阻抗高导通电流,关态高阻抗低泄漏电流特性;应用于高电压(可至12kV),大电流(可至8kA)环境。5-2.Whatismeantbyholdingcurrentofthethyristor?晶闸管维持电流(阳极到阴极),大于则导通,小于则阻断。5-3.WhatismeantbydV/dtratingofthethyristor?晶闸管正常工作要求dV/dt有一个范围,如果阳极电压变化过快,dV/dt超出这个范围,即使没有门极触发电流,也有可能通过位移电流[Jc=CJ(dV/dt)]使晶闸管误开启。Jc--位移电流,CJ--PN结势垒电容。PowerSemiconductorDevicesandSmartPowerICsByYardeni05/2015Page65-4.Whatisturn-onconditionandturn-offconditionforthethyristor?αnpn+αpnp≥1,导通αnpn+αpnp1,阻断Chapter66-1.whatismeantbytheon-resistanceandspecificon-resistanceofthepowe
本文标题:Power-Semiconductor-Devices-and-Smart-Power-ICs
链接地址:https://www.777doc.com/doc-6695029 .html