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7.3国内会議2003年1.竹内昭博,谷屋周平,大参宏昌,垣内弘章,安武潔,芳井熊安:RF-MBE法によるSi(111)基板上へのAlNおよびAlGaN結晶成長,2003年秋季第65回応用物理学会学術講演会(福岡大)30p-G-132.森勇蔵,芳井熊安,安武潔,垣内弘章,大参宏昌,和田勝男:大気圧プラズマCVDによるSiの低温・高速エピタキシャル成長(第4報),精密工学会学術講演会講演論文集,Vol.2003S(2003)pp.148-1483.森勇蔵,芳井熊安,安武潔,垣内弘章,大参宏昌,中濱康治:大気圧プラズマCVD法によるSiNx薄膜の高速形成に関する研究,精密工学会学術講演会講演論文集,Vol.2003S(2003)pp.149-1494.森勇蔵,芳井熊安,安武潔,,垣内弘章,大参宏昌,中濱康治:大気圧プラズマCVD法によるSiNx薄膜の高速形成に関する研究,精密工学会学術講演会講演論文集,Vol.2003A(2003)pp.564-5645.森勇藏,芳井熊安,安武潔,垣内弘章,大参宏昌,増山章,芝田雅仁,山本憲:大気圧プラズマCVD法によるSiの低温・高速エピタキシャル成長,精密工学会2003年度関西地方定期学術講演会B016.森勇藏,芳井熊安,安武潔,垣内弘章,大参宏昌,西嶋健一,中濱康治:大気圧プラズマCVD法による多結晶Si薄膜の高速形成,精密工学会2003年度関西地方定期学術講演会B027.森勇藏,芳井熊安,安武潔,垣内弘章,大参宏昌,中濱康治:大気圧プラズマCVD法によるSiNx薄膜の高速形成に関する研究-原料ガス混合条件が膜構造に及ぼす影響-,精密工学会2003年度関西地方定期学術講演会B038.森勇藏,芳井熊安,安武潔,垣内弘章,大参宏昌,明田正俊:大気圧プラズマCVD法によるSiCの高速成膜―成膜パラメータと膜構造の相関―,精密工学会2003年度関西地方定期学術講演会B049.谷屋周平,竹内昭博,大参宏昌,垣内弘章,安武潔,芳井熊安:紫外光半導体レーザー用AlNおよびAlGaN単結晶薄膜の作製,精密工学会2003年度関西地方定期学術講演会B0610.中嶋大貴,三島英彦,志村考功,安武潔,大参宏昌,垣内弘章,芳井熊安,森勇藏:アトムリソグラフィによる成膜基板の表面制御に関する研究,精密工学会2003年度関西地方定期学術講演会B0811.千代丸誠,藤井由紀,安武潔,遠藤勝義,森勇藏:UHVおよびH2アニールSi(111)表面の構造変化に関する研究,精密工学会2003年度関西地方定期学術講演会B0912.池田学,有馬健太,垣内弘章,遠藤勝義,森田瑞穂,森勇藏:A25光照射を利用した水素化アモルファスシリコン表面の走査型トンネル顕微鏡観察,精密工学会2003年度関西地方定期学術講演会講演論文集13.打越純一,岡本太一朗,森田瑞穂:A31近赤外光干渉法によるシリコンミラーの平面度測定(第2報)-部分コヒーレント光による多重干渉の抑制-,精密工学会2003年度関西地方定期学術講演会講演論文集14.井上晴行,片岡俊彦,和田勝男,出口智己,長尾祥浩,有馬健太,森田瑞穂:レーザー光散乱法によるSiウエハの微小欠陥計測-洗浄ウエハの評価II-,2003年秋季第64回応用物理学会学術講演会(福岡大)2a-YC-715.打越純一,岡本太一朗,島田尚一,森田瑞穂:位相シフト近赤外フィゾー干渉法によるシリコン透過型平面の形状測定,精密工学会学術講演会講演論文集,Vol.2003S(2003)No.SPACEpp.530-53016.打越純一,岡本太一朗,近本元則,森田瑞穂:3交点基準を用いた絶対平面形状測定,精密工学会学術講演会講演論文集,Vol.2003A(2003)No.SPACEpp.458-45817.西川修平,青木稔,吉井直人,有馬健太,森田瑞穂:モノメチルシラン(SiH3CH3)を原料ガスとした熱CVD法によるSiC薄膜の作製と評価,精密工学会2003年度関西地方定期学術講演会講演論文集18.吉井直人,森田諭,篠崎昭仁,青木稔,森田瑞穂:異種金属ゲートMOSを用いたエネルギー障壁高さの決定,極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性第9回研究会19.篠崎昭仁、森田有紀、森田諭、森田瑞穂:MOSトンネルダイオードにおける光電流の酸化膜厚依存性,極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性第9回研究会20.中川寛文,山内良昭,井上晴行,押鐘寧,中野元博,片岡俊彦:三次元境界要素法によるシリコンとその表面上のナノ微小球間との光近接場相互作用,2003年秋季第64回応用物理学会学術講演会(福岡大)1a-Q-221.押鐘寧,南和男,片岡俊彦,井上晴行,中野元博:点光源回折球面波を計測基準とした位相シフト光干渉計の開発,精密工学会学術講演会講演論文集,Vol.2003A(2003)No.SPACEpp.108-10822.武野紘宜,押鐘寧,堀田克広,中川寛文,片岡俊彦,井上晴行,中野元博:フェムト秒レーザーによる回折限界以下の3次元光微細造形技術の開発,精密工学会2003年度関西地方定期学術講演会A0323.中野元博,村山麻衣,片岡俊彦,山内良昭,堤大助:高速せん断流発生用ノズルの高精度補間関数を用いた流れ解析,精密工学会2003年度関西地方定期学術講演会A1624.神田貴史,押鐘寧,中川寛文,片岡俊彦,井上晴行,中野元博:散乱型微小突起プローブを有する走査型近接場光学顕微鏡,精密工学会2003年度関西地方定期学術講演会A2225.南和男,押鐘寧,片岡俊彦,井上晴行,中野元博:点光源回折球面波を計測基準とした位相シフト光干渉計の開発-計測精度,再現性の向上と部分拡大計測-,精密工学会2003年度関西地方定期学術講演会A3226.中野元博,甘崎哲太郎,片岡俊彦,山内良昭,宮本靖久:流れによる表面微粒子運動のエバネセント場照明観察,精密工学会2003年度関西地方定期学術講演会A3527.中川寛文,山内良昭,井上晴行,押鐘寧,中野元博,片岡俊彦:三次元境界要素法によるシリコン表面上の微小球散乱体からの光散乱,精密工学会2003年度関西地方定期学術講演会B1028.片岡俊彦,井上晴行,和田勝男,中野元博,押鐘寧,山内良昭,出口智己,長尾祥浩:光散乱法によるSiウエハ評価装置の開発(30分),精密工学会2003年度関西地方定期学術講演会B1229.押鐘寧,佐藤慎也,長尾明彦,山村和也,遠藤勝義,森勇藏:Xeランプによる紫外吸収CFxラジカル計測-ラジカル密度とプラズマ電力・ガス濃度との相関-,2003年春季第52回応用物理学関係連合講演会(神奈川大学)29a-E-330.押鐘寧,佐藤慎也,長尾明彦,山村和也,遠藤勝義:CVM実プロセスプラズマにおけるCFxラジカルの空間分解分光診断と加工特性との相関,精密工学会学術講演会講演論文集H0231.押鐘寧,佐藤慎也,長尾明彦,山村和也,遠藤勝義:狭ギャップ間の高速定常ガス流下における大気圧・高周波He/CF4/O2プラズマの分光診断,2003年秋季第64回応用物理学会学術講演会(福岡大学)31a-R-132.小野貴俊,田中和夫,尾崎典雅,重森啓介,中井光男,長井圭治,吉田正典,若林邦彦,近藤建一,永尾浩文,五十嵐義高,片岡俊彦,中野元博:紫外および可視域分光による衝撃圧縮されたポリスチレンの温度とユゴニオの同時計測,日本物理学会第58年次大会29aZL-13(2003年3月)33.小野貴俊,田中和夫,尾崎典雅,塩田剛士,吉田正典,近藤建一,M.C.Koenig,若林邦彦,永尾浩文,T.Vinci,中井光男,重森啓介,片岡俊彦,中野元博:衝撃圧縮されたポリスチレンの温度とユゴニオの同時計測,高速度撮影とフォトニクスに関する総合シンポジウム2003(11月20日~22日盛岡エスポワールいわて)34.青野正和,中山知信,長谷川剛,大川祐司,新ヶ谷義隆,久保理,Suk-PilKim,桑原裕司,斎藤彰,赤井恵:低次元ナノ構造の機能を探る,2003年秋季第64回応用物理学会学術講演会(福岡大)30p-D-235.桑原裕司,赤井恵,齋藤彰,青野正和:ナノ構造とその機能計測(キーノートスピーチ),精密工学会学術講演会講演論文集,Vol.2003A(2003)No.SPACEpp.675-67536.高木広幸,齋藤彰,桑原裕司,青野正和:X線定在波法によるSi(001)面上のBi細線の三次元構造解析,精密工学会2003年度関西地方定期学術講演会B1437.植村隆文,高見和宏,赤井恵,斎藤彰,桑原裕司,青野正和:カーボンナノチューブからのトンネル電流誘起発光,精密工学会2003年度関西地方定期学術講演会B1538.高木広幸,齋藤彰,桑原裕司,三木一司,矢代航,青野正和:X線定在波法による埋め込みBi細線の三次元構造解析,2004年春季第51回応用物理学関係連合講演会(東京工科大)30p-ZC-2139.丸山淳平,斎藤彰,真鍋賢,北本克行,小川泰,桑原裕司,青野正和:放射光STM装置を用いた半導体表面と高輝度X線との相互作用の解析,2004年春季第51回応用物理学関係連合講演会(東京工科大)29p-ZB-540.島田乃梨子,赤井恵,斎藤彰,桑原裕司,青野正和:STMによるペンタセン薄膜の電気伝導特性評価,2004年春季第51回応用物理学関係連合講演会(東京工科大)31a-ZB-841.西原清仁,太田黒敦彦,赤井恵,齋藤彰,桑原裕司,青野正和:金属微粒子を用いた金属ナノコンタクトの制御,2004年春季第51回応用物理学関係連合講演会(東京工科大)29a-YM-342.齋藤彰、吉岡伸也、木下修一:モルフォ蝶型発色膜の作製-「切れ切れ多層膜」の本質を求めて-,第4回構造色研究会(2003年11月22日)大阪大学理学部43.齋藤彰:放射光STMの開発,放射光研究会(2003年12月27日)東京大学工学部44.齋藤彰:モルフォ蝶の青色の再現-切れ切れ多層膜の本質について-,ロレアル・カラー研究会(2004年2月19日)東海大学校友会館45.山本優介,赤井恵,斎藤彰,桑原裕司,青野正和:一次元有機単分子鎖構築における連鎖重合反応のダイナミクス,第23回表面科学講演大会2003年11月早稲田大学46.西原清仁,太田黒敦彦,赤井恵,齋藤彰,桑原裕司,青野正和:金属微粒子を用いた、量子ポイントコンタクトの制御,第23回表面科学講演大会2003年11月早稲田大学47.植村隆文,高見和宏,赤井恵,齋藤彰,桑原裕司,青野正和:個々の多層カーボンナノチューブからの発光特性解析,第23回表面科学講演大会2003年11月早稲田大学48.大西秀治,武尾篤,齋藤彰,桑原裕司,青野正和:強誘電体LiNbO3、LiTaO3表面の超平坦化とその構造解析,第23回表面科学講演大会2003年11月早稲田大学49.山本優介,赤井恵,斎藤彰,桑原裕司,青野正和:一次元有機単分子鎖構築における連鎖重合反応のダイナミクス,関西薄膜表面物理セミナー2003年12月50.大西秀治,武尾篤,齋藤彰,桑原裕司,青野正和:強誘電体LiNbO3、LiTaO3表面の超平坦化とその構造解析,関西薄膜表面物理セミナー2003年12月51.桑原裕司:分子エレクトロニクス:人に優しいコンピューター分子素子を作ってくみ上げる-固体表面に組み込む-,日本化学会第83回春季大52.森勇藏,山村和也,佐野泰久,淺田一成,竹中一孝:A11高圧力プラズマCVM(ChemicalVaporizationMachining)による半導体材料の切断加工-SiおよびSiCウエハのダイシング-,精密工学会関西53.森勇藏,山村和也,佐野泰久,秋原孝,山本久朗:A12数値制御プラズマCVM(ChemicalVaporizationMachinning)によるSOIの薄膜化加工-数値制御加工の高速化-,精密工学会関西54.森勇藏,後藤英和,広瀬喜久治,岩井章人,一井愛雄,當間康,小畠厳貴:A13超純水のみに
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