CDILX技术手册7工艺流程设计

IONPUREIP-LXTM模块第七节：工艺流程设计2002年7月技术手册译文APage7-17.0进水等价电导率(FCE)CEDI进水等价电导率（FCE）是用于计算CEDI进水离子含量的一种方法。当然测定离子含量最好的方法是做水质全分析从而测定各种离子和可电离物质的浓度，但有时这又是不现实的。取代频繁做水质全分析的最简单的办法就是只监测CEDI进水电导率。但是如果只参考电导率数值而不测量弱离子物质（像CO2、SiO2）的含量就容易发生极大的偏差，从下表给出的例子可看出偏差的影响之大。表7-1：电导率跟污染物浓度关系表测得的电导率µS/cm只有CO2时ppm只有NaCl时ppm1.00.60.42.541.010.0604.0表中显示了电导率是10µS/cm时，若全部以NaCl计算只有4ppm，若全部以CO2计算则高达60ppm。正是这样，它对常规除盐剂的运行周期有重大影响，因而也对CEDI系统的设计也有极大影响。出于这个原因，提出了CEDI进水等价电导率（FCE）的概念，这是一个将CO2和硅等弱离子考虑在内的指标。进水等价电导率（FCE）的计算方法如下：FCE,µS/cm=测得的电导率+(ppmCO2x2.66)+(ppmSiO2x1.94)在预算CEDI产水水质和计算整流电流大小时将用到FEC指标。CEDI进水中CO2含量可用哈希测试仪器：型号CA-23(#143601)，该仪器最小刻度是1.25mg/l，也可选用Ionpure公司的测试仪器：零件号码是KIT143601，电导率可用手持式电导率表（像MyronL的型号4P）测量或采用RO系统的产水电导率。注：进水TEA（总交换阴离子）见第10节。7.1预算CEDI产水水质CEDI产水水质受到许多因素的影响，像流量、进水浓度、温度。Ionpure公司提供了基于进水条件来预测产水水质的电子设计软件，而不是只有两个影响变量的性能曲线。该电子设计软件被命名为CEDIPro2000，要求安装了Excel97或更高的版本。该软件被压缩在光盘的“CEDIPro2000.2.6.xls”文件中。具体操作是先启动MicrosoftExcel，再打开该文件“CEDIPro2000.2.6.xls”。IONPUREIP-LXTM模块第七节：工艺流程设计2002年7月技术手册译文APage7-2为预算出CEDI的产水指标，那首先得知道用作CEDI进水的反渗透产水指标（可从RO系统或膜厂家的规定预算出或是做RO产水水质分析），下面给出了CEDI预测程序输入表格的一个样子。7.2进水硬度任何时候，CEDI-LX系统进水的总硬度都应当1.0ppm（以CaCO3计算）为满足该要求，可采取以下几种方法：在RO系统之前进行离子交换软化在RO系统之后进行离子交换软化在一级RO前加阻垢剂(针对低硬度进水)在两级RO前加阻垢剂(针对高硬度进水)IONPUREIP-LXTM模块第七节：工艺流程设计2002年7月技术手册译文APage7-3RO系统的设计不仅要保证RO系统的稳定运行，同时它必须保证CEDI的进水硬度始终小于1.0ppm。如果RO系统未使用离子交换软化，那在设计中务必采用下述方法中的某一种：在RO产水硬度不合格前先将RO产水排放，直到产水硬度合格。进水硬度可用哈希测试仪（型号是：HA-71A(#145201)，该测试仪的最小精度是1mg/l，当然也可以采用onpure公司的仪器，部件序号是：KIT145201。7.3水回收率含有离子交换软化的IP-LX系统通常能达到95%的回收率。没有离子交换软化的IP-LX系统的回收率一定不能超过90%。此外，回收率也许还受进水中的硅含量所限制，硅限制的最大回收率计算公式如下：最大回收率,%=100–(4xppm进水硅浓度)CEDI进水中的硅浓度可用哈希测试仪，型号是：SI-7(#2255000)，该仪表的最小测量精度是0.02ppm(20ppb)，当然也可以使用Ionpure公司的仪表，部件序号是：KIT2255000。7.4脱氯在CEDI进水中不能有余氯（即用氯表都测不出来为止）CEDI模块若受氧化性损坏则不被质保。避免余氯产生的方法主要有三种：柱状活性炭过滤(参照下述7.4.1)加亚硫酸氢钠或亚硫酸钠(参照下述7.4.2)紫外（UV）脱氯(参照下述7.4.3)活性炭除氯要比加药除氯要好的多，因为它更加可靠，更少出现生物污染。紫外（UV）脱氯是一种新兴的除氯方法，但它除氯不够彻底，特别是在有氯胺的进水中。CEDI进水中的余氯可用哈希测试仪，型号是CN-70(#1454200)，该仪表的最小测量精度是0.02mg/l，当然也可以使用Ionpure公司的仪表，部件序号是：KIT1454200。7.4.1活性炭除氯出于对系统供应厂家负责，为使活性炭过滤器的大小选型能保证完全除去余氯，那在设计中一定要考虑生水中的余氯浓度。Ionpure公司在活性炭除氯器设计中通常设定最小6分钟的空床接触时间。IONPUREIP-LXTM模块第七节：工艺流程设计2002年7月技术手册译文APage7-47.4.2加药除氯(还原剂法)出于对系统供应厂家负责，为使加药除氯系统能完全除去余氯，那在设计中一定要采用适当的仪表和安全防范装置，以确保进水中不含余氯。在这种有多种加药的系统中（例如加阻垢剂、亚硫酸钠或亚硫酸氢钠、氢氧化钠），推荐采用各种药剂有各自的加药点和药品混合器。更加详细的信息请参照应用注释2002-xx。7.4.3紫外除氯出于对系统供应厂家负责，为使紫外除氯系统能完全除去余氯，那在设计中一定要考虑生水中的余氯浓度和氯胺浓度。7.5CEDI浓水回收CEDI浓排水完全可被工厂其它需要者使用，只是它必须先送到通大气的储罐中先排放完氢气后方可再使用。.若将CEDI浓水回用做反渗透系统的进水，会有两个潜在的问题：有CO2和H2。7.5.1CEDI浓水中的CO2水中的CO2能透过反渗透膜而留在CEDI的进水中，最终被CEDI模块去除并迁移到CEDI的浓水中，若将CEDI浓水回流做反渗透系统的进水，将导致CEDI进水的CO2浓度增加3倍以上，它将直接影响CEDI的性能。在评价CEDI性能的时候一定要考虑这个因素。采用反渗透前脱碳或加碱可降低30%CO2。7.5.2CEDI浓水中的H2为防止CEDI浓水中的H2聚集，浓水必须先回到通大气罐，不能将CEDI浓水直接送到带压管路。更多CEDI电解气体的信息请参照应用注释2002-xx。7.6典型的工艺配置：获美国专利的纯水系统软化/HWSGAC/CartridgeFiltration/HWSRO/HWSIP-LX系统7.7典型的工艺配置：高压锅炉用水阻垢剂/GAC/CartridgeFiltration/RO/IP-LX系统/抛光混床（可选择的）IONPUREIP-LXTM模块第七节：工艺流程设计2002年7月技术手册译文APage7-57.8典型的工艺配置：微电子/半导体用水阻垢剂/加药除氯/CartridgeFiltration/2级RO/膜脱气/IP-LX/PolishLoop