02 微影照像用材料

1微影照像用材料2圖2.1(a)正光阻，和(b)負光阻成像的比較3456圖2.2光阻覆蓋製程7圖2.3(a)正光阻，(b)負光阻的特性比較8（續）圖2.3(a)正光阻，(b)負光阻的特性比較91011圖2.4電漿預處理12圖2.5影像反轉製程和(a)以深紫外光照像，(b)曝光後，(c)矽離子植入，(d)氧離子植入，(e)最後是光罩中透明的部份被保留了。13圖2.6駐波現象14圖2.7(a)繞射現象和(b)降低繞射的比較15圖2.8一個光罩的例子1617圖2.9光罩護膜181920圖2.10接觸式曝光系統21圖2.11步進照像系統22圖2.12在晶圓上步進曝光23圖2.13霧狀晶圓的對準原理24圖2.14(a)傳統光罩，和(b)相移光罩的成像的解析度比像25圖2.15數值孔徑的表示方法26圖2.16焦距深度的表示方法27圖2.17解析力的表示方法28圖2.18各種紫外光和可見光光譜29圖2.19x光微影技術用的光罩3031