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第1页共5页1专升本《微电子器件与IC设计》一、(共71题,共150分)1.电阻率小于的材料称为()。(2分)A.导体B.绝缘体C.半导体.标准答案:A2.半导体硅材料的晶格结构是()。(2分)A.金刚石B.闪锌矿C.纤锌矿.标准答案:A3.施主杂质电离后向半导体提供()。(2分)A.空穴B.电子C.空穴与电子.标准答案:B4.砷化镓中的非平衡载流子复合主要依靠()。(2分)A..标准答案:A5.室温下,半导体Si中掺硼的浓度为,同时掺有浓度为的磷,空穴浓度为()。(已知:室温下)(2分)A.B.C..标准答案:C6.室温下,半导体Si中掺硼的浓度为同时掺有浓度为的磷,少子浓度为(),(已知:室温下)(2分)A.B.C..标准答案:C7.载流子的漂移运动产生()电流。(2分)A.漂移B.隧道C.扩散.标准答案:A8.平衡状态下半导体中载流子浓度载流子的产生率等于复合率,而当时,载流子的复合率()产生率。(2分)A.大于B.等于C.小于.标准答案:C9.MIS结构半导体表面出现强反型的临界条件是()。(VS为半导体表面电势;qVB=Ei-EF)(2分)A.VS=VBB.VS=2VBC.VS=0.标准答案:B10.在开关器件及与之相关的电路制造中,()已作为缩短少数载流子寿命的有效手段。(2分)A..标准答案:C11.平面扩散型双极晶体管中掺杂浓度最高的是()。(2分)A.发射区B.基区C.集电区.标准答案:A12.下列固体中,禁带宽度Eg最大的是()。(2分)A.金属、B.半导体、C.绝缘体.标准答案:C13.在下列半导体中,费米能级最高的是()。(2分)A.强P型B.弱P型C.强N型.标准答案:C14.位错是半导体材料中的一种常见的()。(2分)A.点缺陷B.线缺陷C.面缺陷.标准答案:B15.半导体的电导率随掺杂浓度的增加而()。(2分)A.增加B.减小C.不变.标准答案:A16.根据成分的不同,半导体材料可以分为两类,分别是____________________和____________________。(4分).标准答案:1.元素半导体;2.化合物半导体。;17.PN结电击穿的产生机构两种,分别是________________和________________。(4分).标准答案:1.雪崩击穿;2.隧道击穿或齐纳击穿。;第2页共5页218.当MOSFET器件尺寸缩小时会对其阈值电压VT产生影响,具体地,对于短沟道器件对VT的影响为________,对于窄沟道器件对VT的影响为________。(4分).标准答案:1.下降;2.上升;19.平衡状态下,我们用统一的费米能级EF来标志电子填充能级的水平,在非平衡状态下,导带中的电子填充能级的水平是用________________________(EFn)来衡量,价带中电子填充能级的水平是用________________________(EFp)来衡量。(4分).标准答案:1.导带费米能级;2.价带费米能级;20.在二极管中,外加反向电压超过某一数值后,反向电流突然增大,这个电压叫________________。(2分).标准答案:1.击穿电压;21.在开关器件及与之相关的电路制造中,________________已作为缩短少数载流子寿命的有效手段。(2分).标准答案:1.掺金工艺;22.电阻率小于的材料称为()。(2分)A.导体B.绝缘体C.半导体.标准答案:A23.下列固体中,禁带宽度Eg最大的是()。(2分)A.金属B.半导体C.绝缘体.标准答案:C24.受主杂质电离后向半导体提供()。(2分)A.空穴B.电子C.空穴与电子.标准答案:A25.衡量电子填充能级水平的是()。(2分)A.施主能级B.费米能级C.受主能级.标准答案:B26.室温下,半导体Si中掺硼的浓度为同时掺有浓度为的磷,费米能级();(已知:室温下)(2分)A.高于EiB.低于EiC.等于Ei.标准答案:A27.室温下,半导体Si中掺硼的浓度为同时掺有浓度为的磷,少子浓度为(),(已知:室温下)(2分)A.B.C..标准答案:C28.下列器件属于多子器件的是()。(2分)A.稳压二极管B.肖特基二极管C.发光二极管.标准答案:B29.实际生产中,制作欧姆接触最常用的方法是()。(2分)A.重掺杂的半导体与金属接触B.轻掺杂的半导体与金属接触C.中等掺杂的半导体与金属接触.标准答案:A30.晶体管中复合与基区厚薄有关,基区越厚,复合越多,因此基区应做得()。(2分)A.较厚B.较薄C.很薄.标准答案:C31.在二极管中,外加反向电压超过某一数值后,反向电流突然增大,这个电压叫()。(2分)A.饱和电压B.击穿电压C.开启电压.标准答案:B32.平面扩散型双极晶体管中掺杂浓度最高的是()。(2分)A.发射区B.基区C.集电区.标准答案:A33.晶体中内层电子有效质量()外层电子的有效质量。(2分)A.大于B.等于C.小于.标准答案:A34.位错是半导体材料中的一种常见的()。(2分)A.点缺陷B.线缺陷C.面缺陷.标准答案:B第3页共5页335.在高温本征激发时,本征激发所产生的载流子数将远()于杂质电离所产生的载流子数。(2分)A.多B.少C.等.标准答案:A36.半导体的电导率随掺杂浓度的增加而()。(2分)A.增加B.减小C.不变.标准答案:A37.根据成分的不同,半导体材料可以分为两类,分别是____________________和____________________。(4分).标准答案:1.元素半导体;2.化合物半导体。;38.载流子的迁移率是描述载流子____________________________________________的一个物理量;载流子的扩散系数是描述载流子____________________________________________的一个物理量。(4分).标准答案:1.在电场作用下的运动快慢;2.在浓度梯度作用下的运动快慢;39.PN结电容可分为________________和________________两种。(4分).标准答案:1.扩散电容;2.过渡区电容;40.P型半导体的MIS结构外加栅压时,共有三种状态:________、________、________。(6分).标准答案:1.积累;2.耗尽;3.反型;41.在二极管中,外加反向电压超过某一数值后,反向电流突然增大,这个电压叫________________。(2分).标准答案:1.击穿电压;42.半导体硅材料的晶格结构是()。(2分)A.金刚石B.闪锌矿C.纤锌矿.标准答案:A43.施主杂质电离后向半导体提供()。(2分)A.空穴B.电子C.空穴与电子.标准答案:B44.砷化镓中的非平衡载流子复合主要依靠()。(2分)A..标准答案:A45.室温下,半导体Si中掺硼的浓度为,同时掺有浓度为的磷,空穴浓度为()。(已知:室温下)(2分)A.B.C..标准答案:C46.室温下,半导体Si中掺硼的浓度为同时掺有浓度为的磷,少子浓度为(),(已知:室温下)(2分)A.B.C..标准答案:C47.载流子的漂移运动产生()电流。(2分)A.漂移B.隧道C.扩散.标准答案:A48.平衡状态下半导体中载流子浓度载流子的产生率等于复合率,而当时,载流子的复合率()产生率。(2分)A.大于B.等于C.小于.标准答案:C49.MIS结构半导体表面出现强反型的临界条件是()。(VS为半导体表面电势;qVB=Ei-EF)(2分)A.VS=VBB.VS=2VBC.VS=0.标准答案:B50.在开关器件及与之相关的电路制造中,()已作为缩短少数载流子寿命的有效手段。(2分)A..标准答案:C51.平面扩散型双极晶体管中掺杂浓度最高的是()。(2分)A.发射区B.基区C.集电区.标准答案:A52.下列固体中,禁带宽度Eg最大的是()。(2分)A.金属、B.半导体、C.绝缘体第4页共5页4.标准答案:C53.在下列半导体中,费米能级最高的是()。(2分)A.强P型B.弱P型C.强N型.标准答案:C54.位错是半导体材料中的一种常见的()。(2分)A.点缺陷B.线缺陷C.面缺陷.标准答案:B55.半导体的电导率随掺杂浓度的增加而()。(2分)A.增加B.减小C.不变.标准答案:A56.根据成分的不同,半导体材料可以分为两类,分别是____________________和____________________。(4分).标准答案:1.元素半导体;2.化合物半导体。;57.PN结电击穿的产生机构两种,分别是________________和________________。(4分).标准答案:1.雪崩击穿;2.隧道击穿或齐纳击穿。;58.当MOSFET器件尺寸缩小时会对其阈值电压VT产生影响,具体地,对于短沟道器件对VT的影响为________,对于窄沟道器件对VT的影响为________。(4分).标准答案:1.下降;2.上升;59.平衡状态下,我们用统一的费米能级EF来标志电子填充能级的水平,在非平衡状态下,导带中的电子填充能级的水平是用________________________(EFn)来衡量,价带中电子填充能级的水平是用________________________(EFp)来衡量。(4分).标准答案:1.导带费米能级;2.价带费米能级;60.在二极管中,外加反向电压超过某一数值后,反向电流突然增大,这个电压叫________________。(2分).标准答案:1.击穿电压;61.在开关器件及与之相关的电路制造中,________________已作为缩短少数载流子寿命的有效手段。(2分).标准答案:1.掺金工艺;62.电阻率小于的材料称为()。(2分)63.下列固体中,禁带宽度Eg最大的是()。(2分)A.金属B.半导体C.绝缘体.标准答案:C64.受主杂质电离后向半导体提供()。(2分)A.空穴B.电子C.空穴与电子.标准答案:A65.衡量电子填充能级水平的是()。(2分)A.施主能级B.费米能级C.受主能级.标准答案:B66.室温下,半导体Si中掺硼的浓度为同时掺有浓度为的磷,费米能级();(已知:室温下)(2分)A.高于EiB.低于EiC.等于Ei.标准答案:A67.室温下,半导体Si中掺硼的浓度为同时掺有浓度为的磷,少子浓度为(),(已知:室温下)(2分)A.B.C..标准答案:C68.下列器件属于多子器件的是()。(2分)A.稳压二极管B.肖特基二极管C.发光二极管.标准答案:B69.实际生产中,制作欧姆接触最常用的方法是()。(2分)A.重掺杂的半导体与金属接触B.轻掺杂的半导体与金属接触C.中等掺杂的半导体与金属接触.标准答案:A70.晶体管中复合与基区厚薄有关,基区越厚,复合越多,因此基区应做得()。(2分)A.较厚B.较薄C.很薄.标准答案:C第5页共5页571.在二极管中,外加反向电压超过某一数值后,反向电流突然增大,这个电压叫()。(2分)A.饱和电压B.击穿电压C.开启电压.标准答案:B
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